摘要:
The invention relates to a method for the ultrasensitive simultaneous measurement of nonlinear optical emission signals in one or two local dimensions. Said method comprises the following steps: the excitation light is irradiated in a power-modulated or pulse-modulated form from at least one light source into an interactive volume or onto an interactive area or layer (hereafter called interactive spaces ) in which one or several emissions that are nonlinearly correlated with the excitement light can be excited; the light emanating from said interactive spaces is measured by means of a one-dimensional or two-dimensional detector array; the measured data is transmitted from said detector array to a computer; and said data is formatted in a one-dimensional or two-dimensional data matrix. The inventive method is characterized in that non-correlated portions of the light emanating from the interactive spaces or the portions thereof that are linearly proportionate to the intensity of the excitement light available in said interactive spaces are separated from portions of the light emanating from the interactive spaces, which are not linearly proportionate to the intensity of the available excitement light. The invention further relates to an analytical system that is suitable for carrying out the inventive method.
摘要:
To remove material (2) from a shaped body (1) made of a SiO 2 -based material (2) using intensive light, the absorption of intensive light by the material (2), before the intensive light is directed onto a surface (3) of the shaped body (1), is increased on the surface (3) by the introduction of atomic hydrogen into the surface.
摘要:
Disclosed is a method for producing an optical component, e.g. a four-stage diffractive phase element (6), for electromagnetic radiation by means of laser machining. According to said method, the applied wavelength of the electromagnetic radiation used can be selected independently of the machining wavelength of the laser radiation. The inventive method allows single-stage or multistage profiles to be produced on the component while being useable in a flexible manner on different components, the front face and/or the rear face thereof being optionally machinable. In order to create a staggered component (6) profile (8), a machining cycle is carried out several times, each machining cycle comprising a deposition step in which an absorption layer (2, 2', 2") that absorbs the machining wavelength in a raw state is applied to a substrate element (1) transparent for the machining wavelength range, and an ablation step in which the applied absorption layer (2, 2', 2") is ablated at least across some of the layer thickness at the irradiated points. Furthermore, a material transformation step in which the created profile (8) is transformed into a final state that is transparent for the applied wavelength range is carried out at least once.
摘要:
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils, mit dem aufgrund seiner durch ein mehrstufiges Profil (8) strukturierten Oberfläche eine optische Funktion für elektromagnetische Strahlung eines Anwendungswellenlängenbereichs erzielbar ist, wobei die Oberflächenstrukturierung mit Hilfe einer ablatierenden Laserbearbeitung mit einer Laserstrahlung eines Bearbeitungs-Wellenlängenbereichs durchgeführt wird. Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass ein Bearbeitungszyklus, bestehend aus einem Depositionsschritt einer Absorptionsschicht (2,2',2'') und einem strukturerzeugenden Ablationsschritt mehrfach durchlaufen wird, wobei die Absorptionsschicht für die Bearbeitungswellenlänge absorbierend ist und wobei wenigstens ein oxidativer Materialumwandlungsschritt durchgeführt wird, bei dem das Material der Absorptionsschicht für die Anwendungswellenlänge transparent gemacht wird.
摘要:
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils, mit dem aufgrund seiner durch ein mehrstufiges Profil (8) strukturierten Oberfläche eine optische Funktion für elektromagnetische Strahlung eines Anwendungswellenlängenbereichs erzielbar ist, wobei die Oberflächenstrukturierung mit Hilfe einer ablatierenden Laserbearbeitung mit einer Laserstrahlung eines Bearbeitungs-Wellenlängenbereichs durchgeführt wird. Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass ein Bearbeitungszyklus, bestehend aus einem Depositionsschritt einer Absorptionsschicht (2,2',2'') und einem strukturerzeugenden Ablationsschritt mehrfach durchlaufen wird, wobei die Absorptionsschicht für die Bearbeitungswellenlänge absorbierend ist und wobei wenigstens ein oxidativer Materialumwandlungsschritt durchgeführt wird, bei dem das Material der Absorptionsschicht für die Anwendungswellenlänge transparent gemacht wird.