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11.发明公开Verfahren zur Herstellung eines optischen Dünnschicht-Wellenleiters aus TiO2 失效一种用于制造二氧化钛的光学薄膜波导的方法。
公开(公告)号：EP0542210A1
公开(公告)日：1993-05-19
申请号：EP92119239.9
申请日：1992-11-11
CPC分类号： C23C16/405 , C23C16/511 , G02B6/132
摘要： Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines optischen Dünnschichtwellenleiters aus TiO₂ mit einer Dämpfung von
摘要翻译： 一种用于制造二氧化钛的光学薄膜波导与<5 dB的衰减方法的平面无机基材，其特征在于，产生通过微波等离子CVD工艺（PCVD）的装置中的薄膜波导描述。
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12.发明授权Verfahren zur Herstellung eines optischen Dünnschicht-Wellenleiters aus TiO2 失效一种用于制造二氧化钛的光学薄膜波导的方法。
公开(公告)号：EP0542210B1
公开(公告)日：1995-10-04
申请号：EP92119239.9
申请日：1992-11-11
CPC分类号： C23C16/405 , C23C16/511 , G02B6/132
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