Verfahren zur Herstellung einer Gradientenschicht
    1.
    发明公开
    Verfahren zur Herstellung einer Gradientenschicht 失效
    一种用于生产梯度层处理

    公开(公告)号:EP0718418A1

    公开(公告)日:1996-06-26

    申请号:EP95114298.3

    申请日:1995-09-12

    IPC分类号: C23C16/02 C23C16/50 C23C16/52

    摘要: Die Erfindung betrifft ein Plasma CVD-Verfahren zur Herstellung einer Gradientenschicht, bei welchem der Schichtgradient in Schichtwachstumsrichtung durch Änderung wenigstens eines Plasmaleistungsparameters währens des Beschichtungsprozesses erzeugt wird. Gemäß der Erfindung werden dünne Gradientenschichten mit hoher Ortsauflösung dadurch erzeugt, daß die Plasmaleistung gepulst zugeführt wird und der Schichtgradient durch Änderung der Plasmaleistungsparameter Impulshöhe, Impulsdauer und/oder Impulspause eingestellt wird.

    摘要翻译: 本发明涉及一种等离子CVD工艺制造的梯度层,其中,在膜生长的通过修改至少一个等离子体功率参数的方向上的层梯度Waehrens产生涂覆工艺。 据具有高空间分辨率的本发明薄梯度层产生,其特征在于所述等离子体功率在脉冲供给与层梯度通过改变脉冲幅度,脉冲宽度和/或脉冲间周期的等离子体功率参数进行设置。