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    METHOD FOR DESIGN AND MANUFACTURE OF A RETICLE USING VARIABLE SHAPED BEAM LITHOGRAPHY
    21.
    发明公开
    METHOD FOR DESIGN AND MANUFACTURE OF A RETICLE USING VARIABLE SHAPED BEAM LITHOGRAPHY 审中-公开
    方法设计和生产螺纹CROSS用不同形状的束光刻

    公开(公告)号：EP2321839A2

    公开(公告)日：2011-05-18

    申请号：EP09810459.9

    申请日：2009-08-18

    申请人： D2S, Inc.

    发明人： FUJIMURA, Akira ,  TUCKER, Michael

    IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20

    CPC分类号： H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/68 ,  G03F1/78 ,  Y10S430/143

    摘要： A method is disclosed for using non-overlapping variable shaped beam (VSB) shots in the design and manufacture of a reticle, where the union of the plurality of shots deviates from the desired pattern. Methods are described for fracturing or mask data preparation or proximity effect correction of a desired pattern to be formed on a reticle; for forming a pattern on a reticle using charged particle beam lithography; and for optical proximity correction (OPC) of a desired pattern. Dosages of the shots may be allowed to vary with respect to each other. The plurality of shots may be determined such that a pattern on the surface calculated from the plurality of shots is within a predetermined tolerance of the desired pattern. In some embodiments, an optimization technique may be used to minimize shot count.

    摘要翻译： 一种方法是游离缺失盘用于在光罩，其中拍摄的多个联合与期望图案的叉开的设计和制造使用非重叠的可变形束（VSB）发射。 方法被描述用于向期望形成在标线片的图案的压裂或掩模数据准备或邻近效应校正的; 用于形成上使用带电粒子束光刻的标线片的图案; 和用于所希望的图案的光学邻近校正（OPC）。 的镜头的剂量可以被允许相对于海誓山盟变化。 拍摄主体的多元化可能是确定的开采搜索的确从拍摄的多个计算的表面上的图案是期望图案的预定公差范围内。 在一些实施例中，在优化技术可以被用来最小化发射次数。