摘要:
Der wäßrig-alkalische Entwickler für bestrahlte strahlungsempfindliche negativ-arbeitende, gegebenenfalls ein organisches Bindemittel enthaltende Reproducktionsschichten ist auf der Basis von Wasser, einem anionischen Tensid, mindestens einem alkalisch-reagierenden anorganischen Salz und mindestens einer aliphatischen Dicarbonsäure oder einem ihrer Salze aufgebaut. Er enthält bei einem pH-Wert von 8 bis 12 al 0,05 bis 10 Gew.-% eines Natrium-, Kalium-oder Lithiumsalzes des Schwefelsäureesters eines Alkanols von C 7 bis C 14 . b) 0,001 bis 5 Gew.-% eines Natrium-, Kalium-oder Lithiummetasilikats, c) 0,1 bis 15 Gew.-% eines Natrium-, Kalium- oder Lithiumborats. d) 0,01 bis 5 Gew.-% einer Alkandisäure von C 2 bis C f oder eines ihrer Natrium-, Kalium- oder Lithiumsalze, e) 0,5 bis 12 Gew.-% eines Di-oder Trinatrium- oder -kaliumphosphats, f) 0,02 bis 10 Gew.-%einer gegebenenfalls substituierten Benzoesäure oder eines ihrer Natrium-, Kalium-, Lithium-oder Ammoniumsalze und g) 0,5 bis 5 Gew.-% eines Ethylenglykolmono-oder -diethers lz B 2-Phenoxy-ethanol-(1)]. Das Gewichtsverhältnis der Natrium- zu den Kaliumionen liegt im Entwickler im Bereich von 1 zu 1 bis 1,4 zu 1. Im Verfahren zum Entwickeln der genannten Reproduktionsschichten wird eben-falls diese Komposition eingesetzt.