公开(公告)号：EP2503960A2

公开(公告)日：2012-10-03

申请号：EP10832374.2

申请日：2010-11-23

申请人： AMS Research Corporation

发明人： JAGGER, Karl, A. ,  HACKER, Dean ,  FELTON, Jessica ,  FRIGSTAD, John, R. ,  PETERSON, Alex

IPC分类号： A61F2/08

CPC分类号： A61F2/0063 ,  A61F2/0045 ,  A61F2002/0068 ,  A61F2002/0081 ,  A61F2220/0016 ,  A61F2250/0023

摘要： A unitary or homogeneous patterned implant is provided. The implant is constructed of patterned cells formed by way of a molding, die casting, laser etching, laser cutting, extruding, and the like. Portions of the implant can be formed into sinusoid or other waveform strut members to control and promote elongation, expansion or contraction along single or multiple axes, As such, controlled and designated stress, tension and compression distribution is promoted across specific or localized areas of the implant.

摘要翻译： 提供单一或均匀的图案植入物。 植入物由通过模制，压铸，激光蚀刻，激光切割，挤出等形成的图案化单元构成。 植入物的部分可以形成为正弦曲线或其他波形支柱构件，以控制和促进沿着单个轴或多个轴的伸长率，膨胀或收缩。 因此，在植入物的特定或局部区域促进受控和指定的应力，张力和压缩分布。