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1.发明公开A method for treating a lithographic printing plate 有权Verfahren zur Behandlung einer Lithografiedruckplatte
公开(公告)号：EP2065211A1
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：EP07121963.8
申请日：2007-11-30
申请人： Agfa Graphics N.V.
摘要： Method for cleaning a lithographic printing plate comprising the step of applying a liquid to the plate including an aqueous phase, a solvent phase and at least one alkyl (poly)glucoside, said solvent phase including a mixture comprising aliphatic and/or aromatic hydrocarbons, characterized in that the amount of solvent phase in the liquid is ≤ 40%wt.
摘要翻译： 一种用于清洁平版印刷版的方法，包括将液体施加到包括水相，溶剂相和至少一种烷基（多）葡萄糖苷的平板的步骤，所述溶剂相包括含有脂族和/或芳族烃的混合物，其特征在于 因为液体中溶剂相的含量为40％wt。
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公开(公告)号：EP2065211B1
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：EP07121963.8
申请日：2007-11-30
申请人： Agfa Graphics N.V.
IPC分类号： B41N3/06
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公开(公告)号：EP2106924B1
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：EP08103210.4
申请日：2008-03-31
申请人： Agfa Graphics N.V.
发明人： Maessen, Peter , Mertens, Patrick
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4.发明公开A method for treating a lithographic printing plate 有权Verfahren zur Behandlung einer lithografischen Druckplatte
公开(公告)号：EP2106924A1
公开(公告)日：2009-10-07
申请号：EP08103210.4
申请日：2008-03-31
申请人： Agfa Graphics N.V.
发明人： Maessen, Peter , Mertens, Patrick
摘要： A method for treating a lithographic printing plate is dislosed comprising the step of applying a liquid to the plate including
- an aqueous phase;
- a solvent phase which is present in the liquid in an amount ≤ 40%wt;
- and one or more compound(s) having the following formula I:
R 1 -O-(Y) n -H
wherein
R 1 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group;
Y represents -CH 2 -CHR 2 -O- with R 2 = hydrogen or an alkyl group and/or mixtures thereof;
and n is an integer ≥ 10.摘要翻译： 一种用于处理平版印刷版的方法是封闭的，包括将液体施加到包括水相的板的步骤; - 液体中存在的溶剂相，其量为‰40％wt; - 和一种或多种具有下式I的化合物：其中R 1是甲基，R 1是（Y）n -H，其中R 1是甲基， 乙基，丙基或丁基; Y表示-CH 2 -CHR 2 -O-，其中R 2 =氢或烷基和/或其混合物; n为整数‰¥10。
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