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1.

发明公开
PROCESS FOR THE GENERATION OF THIN SILICON-CONTAINING FILMS 审中-公开

公开(公告)号：EP3532651A1

公开(公告)日：2019-09-04

申请号：EP17783885.1

申请日：2017-10-18

申请人： BASF SE

发明人： AHLF, Maraike , SCHWEINFURTH, David Dominique , MAYR, Lukas , LESZCZYNSKA, Kinga Izabela , SCHESCHKEWITZ, David

IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/40 , C23C16/34 , C23C16/32

2.

发明公开
PROCESS FOR THE GENERATION OF METAL- OR SEMIMETAL-CONTAINING FILMS 审中-公开

公开(公告)号：EP3821057A1

公开(公告)日：2021-05-19

申请号：EP19735323.8

申请日：2019-07-04

申请人： BASF SE

发明人： SCHWEINFURTH, David Dominique , MAYR, Lukas , KLENK, Sinja Verena , SCHESCHKEWITZ, David , LESZCZYNSKA, Kinga Izabela

IPC分类号： C23C16/18 , C23C16/06 , C23C16/455