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1.发明公开Verfahren zum Abscheiden einer Emaillierschicht 失效Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden einer Emaillierschicht。
公开(公告)号：EP0505967A1
公开(公告)日：1992-09-30
申请号：EP92104996.1
申请日：1992-03-23
IPC分类号： C23D5/02
CPC分类号： C23D5/02
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Abscheiden einer Emailleschicht. Dabei wird ein Werkstück (1) mit zu emaillierenden Werkstückflächen (3) in ein Emailleschlickerbad (5) eingetaucht, wobei zwischen einer dem Emailleschlickerbad (5) zugeordneten Kathode und dem Werkstück (1) als Anode eine Gleichspannung angelegt wird, um eine Emailleschicht auf Werkstückflächen (3) abzuscheiden. Erfindungsgemäß wird zur Beeinflussung der Dicke einer Emailleschicht, die auf einer vorgebbaren Werkstückfläche (13) abgesschieden wird, der vorgebbaren Werkstückfläche (13) im Abstand ein Abschirmelement (15) zugeordnet.
摘要翻译： 在用于沉积搪瓷层的工艺中，将具有要搪瓷的工件表面（3）的工件（1）浸入搪瓷滑移槽（5）中，将直接电压施加到指定给搪瓷滑移槽（5） ）和工件（1）作为阳极，以便在工件表面（3）上沉积搪瓷层。 根据本发明，为了改变沉积在特定工件表面（13）上的搪瓷层的厚度，特定工件表面（13）具有一定距离设置的筛分元件（15）。
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2.发明公开Tragvorrichtung zum Haltern eines durch ein Eintauchemaillierverfahren zu emaillierenden Werkstücks 失效Tragvorrichtung zum Haltern eines durch ein Eintauchemaillierverfahren zu emaillierendenWerkstücks。
公开(公告)号：EP0505699A1
公开(公告)日：1992-09-30
申请号：EP92101811.5
申请日：1992-02-04
摘要： Die Erfindung betrifft eine Tragvorrichtung zum Haltern eines durch ein Eintauchemaillierverfahren zu emaillierenden Werkstückes (1) mit zwei im Abstand voneinander angeordneten Durchgangsöffnungen. Erfindungsgemäß sind an der Tragvorrichtung (3) zwei Führungselemente (15) aus einem isolierenden Material so angeordnet, daß jeweils ein Führungselement (15) einer Durchgangsöffnung zugeordnet ist. Dabei weist jedes Führungselement (15) einen sich an einen Befestigungsabschnitt (17) für eine Verbindung mit der Tragvorrichtung (3) anschließenden Führungsabschnitt (19) auf, der sich unter einem vorgebbaren Winkel (a) schräg von der Tragvorrichtung (3) erstreckt und beim Haltern des Werkstückes (1) in eine Durchgangsöffnung eingreift, so daß das Werkstück (1) zum Haltern über die Führungsabschnitte (19) geführt wird. Jeder Führungsabschnitt (19) ist so angeordnet und/oder ausgebildet, daß das Werkstück (1) nach einem Aufschieben auf die Führungselemente (15) in Richtung zu der Tragvorrichtung (3) geschwenkt werden kann.
摘要翻译： 本发明涉及一种用于保持通过搪瓷工艺搪瓷的物体（1）的支撑装置，所述装置具有彼此间隔开设置的两个通孔。 根据本发明，由绝缘材料制成的两个引导元件（15）以这样的方式设置在支撑装置（3）上，使得一个引导元件（15）在每种情况下分配给一个通孔。 在这种布置中，每个引导元件（15）具有与支撑装置（3）连接的紧固部分（17）相邻的引导部分（19），从支撑装置（3）倾斜地以可预定的角度（a）延伸 ）并且在物体（1）的保持期间接合通孔，使得物体（1）被引导在用于保持的引导部分（19）上。 每个引导部分（19）被布置和/或设计成使得在推动引导元件（15）之后，物体（1）能够在支撑装置（3）的方向上旋转。
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4.发明授权Tragvorrichtung zum Haltern eines durch ein Eintauchemaillierverfahren zu emaillierenden Werkstücks 失效用于支撑支撑装置由一个Eintauchemaillierverfahren工件上漆包。
公开(公告)号：EP0505699B1
公开(公告)日：1995-10-04
申请号：EP92101811.5
申请日：1992-02-04
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5.发明授权Vorrichtung und Verfahren zum Abschirmen eines freizuhaltenden Bereichs eines Werkstückes beim Eintauchemaillieren 失效装置和方法，用于屏蔽的部分Eintauchemaillieren期间保持无工件。
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6.发明公开Vorrichtung und Verfahren zum Abschirmen eines freizuhaltenden Bereichs eines Werkstückes beim Eintauchemaillieren 失效装置和方法，用于屏蔽的部分Eintauchemaillieren期间保持无工件。
公开(公告)号：EP0505698A1
公开(公告)日：1992-09-30
申请号：EP92101810.7
申请日：1992-02-04
IPC分类号： C23D5/02
CPC分类号： C23D5/02
摘要： Die Erfindung betrifft eine Abschirmvorrichtung für einen freizuhaltenden Bereich eines durch ein Eintauchemaillierverfahren zu emaillierenden Werkstückes mit einem den Bereich abdeckenden Abschirmelement. Erfindungsgemäß wird das Abschirmelement (1) so im Abstand von dem freizuhaltenden Bereich (3) angeordnet, daß zwischen einander zugewandten Flächen des Abschirmelementes (1) und des freizuhaltenden Bereichs (3) ein Zwischenraum (9) vorgebbarer Breite (7) gebildet wird. Damit können in einem nachfolgenden Reinigungsschritt etwaig in dem Zwischenraum zwischen dem Abschirmelement (1) und dem freizuhaltenden Bereich (3) angesammelte Emaillepartikel (12) entfernt werden.
摘要翻译： 本发明涉及一种设备，用于在areaswhich保护是保持未处理的对象物的通过浸渍涂搪工艺漆包，具有覆盖的区域的保护元件的所述装置。 。根据本发明，所述保护元件（1）在从所述区域（3）的距离被布置在寻求一种方法来保持未处理的在中间空间（9）预先确定的宽度的（7）的相互面对的表面之间形成确实 保护元件（1）和所述区域（3）保持未处理。 因此，其具有聚集在保护元件（1）和所述区域（3）之间的中间空间保持未处理的任何搪瓷颗粒（12）可在随后的清洗步骤中除去。
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