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公开(公告)号：EP0057162A1
公开(公告)日：1982-08-04
申请号：EP82810026.3
申请日：1982-01-22
申请人： CIBA-GEIGY AG
CPC分类号： G03F7/031 , G03F7/032 , Y10S430/106 , Y10S430/107 , Y10S430/109 , Y10S430/124
摘要： Eine Methode zur Erzeugung von Abbildungen nach einem Positivresistverfahren besteht darin, dass man (1) eine Photoresistzusammensetzung, die aus (1) einem filmbildenden organischen Material mit mindestens einer substituierten Benzoingruppe der Formel
worin R' für ein Wasserstoffatom, eine Alkyl-, Cycloalkyl-, Cycloalkylalkyl- oder Aralkylgruppe oder eine Gruppe -(CH 2 ) b X, R 2 für ein Wasserstoffatom oder eine Alkyl-, Cycloalkyl-, Cycloalkylalkyl-, Aryl- oder Aralkylgruppe, R 3 für ein Halogenatom oder eine Alkyl-, Alkoxy-, Cycloalkyl-, Cycloalkylalkyl- oder Phenylgruppe, X für ein Halogenatom, eine Alkoxygruppe, eine Phenoxygruppe, eine Gruppe -COOR 4 oder eine Gruppe -OOCR- stehen, wobei R ß eine Alkylgruppe bedeutet, sowie a null oder 1, b eine ganze Zahl von 1 bis 4, m und n je null oder 1, wobei die Summe von m + n = 1 ist, p und q je null oder 1 sind, wobei die Summe von p + q = 1 ist, und c und d je null oder eine ganze Zahl von 1 bis 3 sind, und (b) einer Verbindung, die unter der Einwirkung eines Radikalkatalysators zu höhermolekularem Material polymerisierbar ist, das in einem Entwickler löslicher ist als die Zusammensetzung vor der Belichtung, sodass die Löslichkeit der Zusammensetzung im Entwickler in dem belichteten Teil zunimmt, besteht, mit aktinischer Strahlung bildweise belichtet und (2) die Zusammensetzung mit einem Entwickler behandelt, um den belichteten Teil zu entfernen.摘要翻译： 一种用于为正生成图像的方法，抗蚀剂工艺包括在（1）具有下式的
其中，R表示氢原子，烷基中的至少一种取代的苯偶姻基团的成膜有机材料，环烷基：（1）一个光致抗蚀剂组合物 - ，环烷基烷基或芳烷基，或基团 - （CH 2）b X，R 2代表氢原子或烷基，环烷基，环烷基烷基，芳基或芳烷基，R 3代表一个卤原子或一个烷基，烷氧基，环烷基， 环烷基烷基或苯基基团，X是烷氧基的卤原子，苯氧基，一组-COOR <4>或一组-OOCR <4>，其中R <4>表示烷基，并且a是0或1，b为整数 数从1到4，m和n各自为0或1时，m + n = 1时，p和q的总和是每个零或1，p + q = 1的总和，和c和d各自 是零或1〜3的整数，和（b）一个连接 UNG，这是一种自由基催化剂的作用以形成较高分子量的材料，其在显影剂中比在曝光之前该组合物更可溶，以便在显影剂组合物中的溶解度在曝光部增大，下聚合暴露于光化辐射成像式和（2 ）用显影剂处理该组合物以除去暴露部分。 -
公开(公告)号：EP0070253A1
公开(公告)日：1983-01-19
申请号：EP82810285.5
申请日：1982-07-05
申请人： CIBA-GEIGY AG
摘要： Diacrylate oder Dimethacrylate, die vor Belichtung mit aktinischer Strahlung mit Wasser verträglich sind, doch nach einer solchen Belichtung harte, unlösliche, gegen organische Lösungsmittel und Wasser widerstandsfähige Ueberzüge bilden, werden dadurch hergestellt, dass man Epoxidgruppen in einem vorverlängerten, Gruppen der Formel
worin R 4 einen zweiwertigen (cyclo)aliphatischen oder araliphatischen Rest und R 15 jeweils eine Alkylgruppe oder paarweise eine Gruppe der Formel (̵CH 2 ) 2 - -C (R 16 R 17 )CO-, -CH 2 CH(CH 3 )-,(̵CH 2 )̵ 3 oder (̵CO)̵ 2 darstellen, wobei R 16 und R" je für ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder zusammen einen cycloaliphatischen Ring stehen, und c null oder 1 ist, enthaltenden Diepoxidharz mit (Meth)acrylsäure oder einer Dicarbonsäure und einem hydroxylgruppenhaltigen (Meth)acrylat umsetzt.摘要翻译： 二丙烯酸酯或二甲基丙烯酸酯，其是与暴露于光化辐射之前与水相容的，而是形成硬的，不溶性的，以这样的暴露后有机溶剂和水的涂层，耐通过环氧基团在式
的所谓的先进的，基团反应来制备 其中R <4>为二价（环）脂族或芳脂族基团和R <5>是烷基或成对，下式基团＆lparstr的; CH 2）2 - ，-C（R <6> - [R <7>）CO-， -CH 2 CH（CH 3） - ，＆lparstr; CH2 .paren靠近-ST; 3或lparstr CO .paren靠近-ST; 2表示，其中R <6>和R <7>分别表示氢原子，烷基或一起形成一个脂环族环，和c是0或1 丙烯酸与（甲基）二环氧化物树脂或二羧酸和含羟基的（甲基）丙烯酸酯反应含酸。 -
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公开(公告)号：EP0057162B1
公开(公告)日：1984-06-27
申请号：EP82810026.3
申请日：1982-01-22
申请人： CIBA-GEIGY AG
CPC分类号： G03F7/031 , G03F7/032 , Y10S430/106 , Y10S430/107 , Y10S430/109 , Y10S430/124
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