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1.发明公开Reflektives Röntgenmikroskop und Inspektionssystem zur Untersuchung von Objekten mit Wellenlängen 100nm 审中-公开与波长100nm的检查对象的反射X射线显微镜和检查系统
公开(公告)号：EP1455365A3
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：EP04013866.1
申请日：2003-05-08
发明人： Mann, Hans-Jürgen , Engel, Thomas Dr. , Dinger, Udo , Zibold, Axel Dr. , Ulrich, Wilhelm , Harnisch, Wolfgang , Reinecke, Wolfgang Dr , Wedowski, Marco, Dr. , Pauschinger, Dieter
摘要： Die Erfindung betrifft ein Inspektionssystem für die Untersuchung von Objekten, insbesondere Masken für die Mikrolithographie mit Wellenlängen
- einem Beleuchtungssystem zur Ausleuchtung eines Feldes in einer Objektebene (1), wobei
- in der Objektebene innerhalb des ausgeleuchteten Feldes das zu untersuchende Objekt angeordnet ist;
- einem Abbildungssystem für Wellenlängen ≤ 100 nm zur vergrößernden Abbildung wenigstens eines Ausschnittes des Objektes in eine Bildebene (3);
- einem in der Bildebene (3) angeordneten Bildaufnahmesystem.
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