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发明公开
PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY WITH INCREASED THERMAL ROBUSTNESS 审中-公开

公开(公告)号：EP3523697A1

公开(公告)日：2019-08-14

申请号：EP17778248.9

申请日：2017-09-27

申请人： Carl Zeiss SMT GmbH

发明人： AKBARINIA, Alireza , KEMP, Alexandre , LAUFER, Timo , PANCHAL, Amishkumar

IPC分类号： G03F7/20