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发明公开
METHOD AND APPARATUS FOR PARTICLE BEAM-INDUCED PROCESSING OF A DEFECT OF A MICROLITHOGRAPHIC PHOTOMASK 审中-实审

公开(公告)号：EP4356197A1

公开(公告)日：2024-04-24

申请号：EP22737397.4

申请日：2022-06-15

申请人： Carl Zeiss SMT GmbH

发明人： RENSING, Christian , BRENDEL, Michael , BUDACH, Michael , REUSS, Martin Guenter

IPC分类号： G03F1/74 , G03F1/72 , G03F1/80 , C23F1/12 , C23F4/00

CPC分类号： G03F1/74 , G03F1/72 , G03F1/80