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    Method for thermal development of a photosensitive element using a development medium having a support
    2.
    发明公开
    Method for thermal development of a photosensitive element using a development medium having a support 有权
    一种用于使用与载体的显影介质热显影的感光元件的方法

    公开(公告)号：EP1764654A1

    公开(公告)日：2007-03-21

    申请号：EP06017610.4

    申请日：2006-08-24

    申请人： E.I. du Pont de Nemours and Company

    发明人： Dudek, Dietmar ,  Hackler, Mark A. ,  Mcmillen, Robert A. ,  Banke, Allan

    IPC分类号： G03F7/36 ,  B41C1/10

    CPC分类号： B41C1/055 ,  B41C1/06 ,  G03F7/36

    摘要： This invention relates to a method for thermally developing a photosensitive element to form a relief pattern. The method includes heating a composition layer of the element to cause a portion of the layer to liquefy and providing a development medium under tension to the element to absorb the liquefied composition. The development medium includes an absorbent material and a support, the combination of which minimizes stretch and distortion of the absorbent material and can impede the migration of the liquefied composition through the absorbent material.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于热显影的光敏元件，以形成浮雕图案的方法。 该方法包括加热所述元件的组合物层，以使所述层的一部分以液化，并提供在张力下的显影介质向元件吸收液化组合物。 发展包括吸收材料和支撑的平台，这最小化的组合伸展和吸收材料的变形，并且可以通过吸收材料阻碍液化组合物的迁移。