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1.

发明授权
VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM AUFTRAGEN VON FOTORESISTLACK AUF NICHT EBENE GRUNDKÖRPEROBERFLÄCHEN 失效
标题翻译： FOR应用相片的方法和设备抵制不画在水平地面体表

公开(公告)号：EP0919015B1

公开(公告)日：2000-11-15

申请号：EP97942863.8

申请日：1997-08-19

申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.

发明人： LÜTHJE, Holger , DAAUD, Simone , BÖTTCHER, Reinulf

IPC分类号： G03F7/18 , B05D1/26 , B05D1/28 , G03F7/16

CPC分类号： B05C11/1034 , B05B13/0442 , B05C5/0216 , G03F7/18

摘要： A device for applying photoresist lacquer on uneven surfaces of base bodies of any shape, in particular rotation bodies, has a receptacle (14) for the base body (40), a supply unit (20) movable in relation thereto for supplying the photoresist lacquer (50) and means (16) for moving the base body in a defined manner. The supply unit (20) has at least one point source (30) for applying a trace (51) on the surface (41) of the base body (40).

2.

发明公开
VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM AUFTRAGEN VON FOTORESISTLACK AUF NICHT EBENE GRUNDKÖRPEROBERFLÄCHEN 失效
标题翻译： FOR应用相片的方法和设备抵制不画在水平地面体表

公开(公告)号：EP0919015A1

公开(公告)日：1999-06-02

申请号：EP97942863.0

申请日：1997-08-19

申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.

发明人： LÜTHJE, Holger , DAAUD, Simone , BÖTTCHER, Reinulf

IPC分类号： G03F7 , B05C5 , B05C11 , B05D1 , B81C1 , H01L21 , B05B13

CPC分类号： B05C11/1034 , B05B13/0442 , B05C5/0216 , G03F7/18

摘要： A device for applying photoresist lacquer on uneven surfaces of base bodies of any shape, in particular rotation bodies, has a receptacle (14) for the base body (40), a supply unit (20) movable in relation thereto for supplying the photoresist lacquer (50) and means (16) for moving the base body in a defined manner. The supply unit (20) has at least one point source (30) for applying a trace (51) on the surface (41) of the base body (40).