公开(公告)号：EP3217423A1

公开(公告)日：2017-09-13

申请号：EP16158906.4

申请日：2016-03-07

申请人： Fritz Haber Institut der Max Planck Gesellschaft Department of Inorganic Chemistry

发明人： Freund, Hans-Joachim ,  Heyde, Markus ,  Büchner, Christin

IPC分类号： H01L21/316

CPC分类号： H01L21/02203 ,  C23C14/0005 ,  C23C14/10 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02266 ,  H01L21/2007 ,  H01L21/28167 ,  H01L29/51

摘要： The present invention inter alia relates to a supported silica bilayer (SiO 2 bilayer) film. In the supported silica bilayer film, the silica bilayer film consists of two atomic layers of corner-sharing SiO 4 tetrahedra, forms in itself a chemically saturated structure and contains pores. The silica bilayer film has a first (1) and a second side (2) and is supported on the first side (1) by a removable polymer film. The invention further relates to a process for producing the supported silica bilayer film, a process for transferring a silica bilayer film, a free-standing silica bilayer film, a stack comprising a plurality of silica bilayer films, a filed-effect transistor having a gate oxide comprising the silica bilayer film or a stack thereof and the use of a silica bilayer film.

摘要翻译： 本发明特别涉及负载型二氧化硅双层（SiO 2双层）膜。 在负载的二氧化硅双层膜中，二氧化硅双层膜由角共享SiO4四面体的两个原子层组成，其本身形成化学饱和结构并包含孔。 二氧化硅双层膜具有第一侧面（1）和第二侧面（2）并且通过可移除的聚合物膜支撑在第一侧面（1）上。 本发明进一步涉及制备负载型二氧化硅双层膜的方法，用于转移二氧化硅双层膜的方法，自立式二氧化硅双层膜，包含多个二氧化硅双层膜的堆叠，具有栅极的场效应晶体管 包含二氧化硅双层膜或其叠层的氧化物以及二氧化硅双层膜的用途。