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    Vertikal-Tiegelziehverfahren zur Herstellung eines Glaskörpers mit hohem Kieselsäuregehalt
    2.
    发明公开
    Vertikal-Tiegelziehverfahren zur Herstellung eines Glaskörpers mit hohem Kieselsäuregehalt 有权
    生产玻璃机身采用二氧化硅含量垂直坩埚的绘制方法

    公开(公告)号：EP2886519A1

    公开(公告)日：2015-06-24

    申请号：EP13197976.7

    申请日：2013-12-18

    申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

    发明人： Buckenauer, Thomas ,  Pohl, Remo ,  Stenger, Robert ,  Böhler, Alexander

    IPC分类号： C03B5/24 ,  C03B3/00 ,  C03B5/033 ,  C03B17/04

    CPC分类号： C03B3/00 ,  C03B5/0336 ,  C03B5/24 ,  C03B17/04

    摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Glaskörpers mit hohem Kieselsäuregehalt durch Ziehen einer erweichten Glasmasse aus einem länglichen, im Wesentlichen zylindrischen Schmelztiegel, indem in den Schmelztiegel SiO 2 -Körnung von oben zugeführt wird, die SiO 2 -Körnung auf eine Erweichungstemperatur erhitzt wird, so dass sich die eine Schmelzoberfläche aufweisende, erweichte Glasmasse bildet, die erweichte Glasmasse über eine Bodenöffnung des Schmelztiegels unter Bildung eines Glasstrangs abgezogen, und der Glasstrang zu dem Glaskörper abgelängt wird, wobei durch das Zuführen der SiO 2 -Körnung eine Schüttung gebildet wird, die die Schmelzoberfläche teilweise, unter Belassung eines Schmelzrandes bedeckt, und wobei die Schmelzoberfläche optisch erfasst wird. Um das Einschmelzverhalten der Körnung zu verbessern und die Ausbildung einer Sinterkruste zu unterdrücken oder ganz zu verhindern, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, bei der optischen Erfassung der Schmelzoberfläche die Breite mindestens eines Teilabschnitts des Schmelzrandes fortlaufend zu ermitteln und durch die Zufuhrrate der SiO 2 -Körnung auf einen Wert innerhalb eines Soll-Breitenbereichs einzustellen.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于制造具有通过拉细长的大致圆筒状的坩埚的软化的玻璃的质量高二氧化硅含量由2个颗粒从上方供给到坩埚的SiO，将其加热的SiO 2个颗粒的软化温度的玻璃体， 使得具有熔体表面，软化玻璃质量的形式，经由该坩埚的底部开口的软化的玻璃质量抽出以形成玻璃丝和玻璃的链被切到玻璃主体，2个颗粒，床由供给将SiO形成 釉质表面部分，留下覆盖的熔融边缘，并且其中光学检测熔体表面。 为了提高颗粒的熔融行为和抑制烧结地壳的形成或预防，本发明提出以确定，在熔体表面的光学检测，至少在熔化边缘连续的部分的宽度和SiO 2颗粒的进料速率到 预定的宽度范围内的设定值。