公开(公告)号：EP2360701A1

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：EP09827604.1

申请日：2009-11-19

申请人： International Superconductivity Technology Center, The Juridical Foundation ,  The Furukawa Electric Co., Ltd. ,  Japan Fine Ceramics Center

发明人： MIYATA, Seiki ,  FUKUSHIMA, Hiroyuki ,  KURIKI, Reiji ,  IBI, Akira ,  YOSHIZUMI, Masateru ,  KINOSHITA, Akio ,  YAMADA, Yutaka ,  SHIOHARA, Yuh ,  YOSHIDA, Ryuji ,  KATO, Takeharu ,  HIRAYAMA, Tsukasa

IPC分类号： H01B12/06 ,  C01G1/00 ,  C01G3/00 ,  C22C19/03 ,  H01B13/00

CPC分类号： H01L39/2461 ,  Y10T428/24355

摘要： Provided is a substrate for superconductive film formation, which includes a metal substrate, and an oxide layer formed directly on the metal substrate, containing chromium oxide as a major component and having a thickness of 10-300 nm and an arithmetic average roughness Ra of not more than 50 nm. A method of manufacturing a substrate for superconductive film formation, which includes forming an oxide layer directly on a metal substrate, the oxide layer containing chromium oxide as a major component and having a thickness of 10-300 nm and an arithmetic average roughness Ra of not more than 50 nm.

摘要翻译： 本发明提供一种超导膜形成，其包括金属基底，并在金属基底上直接形成氧化物层上，含铬氧化物作为主要组分，并且具有的厚度为10-300纳米，以不算术平均粗糙度Ra一个基板 超过50nm。制造用于超导膜形成，其包括在金属基板氧化物层上形成直接，氧化物层含铬氧化物作为主要成分的基片和具有算术的厚度为10-300纳米，的方法 不超过50纳米的平均粗糙度Ra。

公开(公告)号：EP2360701B1

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：EP09827604.1

申请日：2009-11-19

申请人： International Superconductivity Technology Center, The Juridical Foundation ,  Furukawa Electric Co., Ltd.

发明人： MIYATA, Seiki ,  FUKUSHIMA, Hiroyuki ,  KURIKI, Reiji ,  IBI, Akira ,  YOSHIZUMI, Masateru ,  KINOSHITA, Akio ,  YAMADA, Yutaka ,  SHIOHARA, Yuh ,  YOSHIDA, Ryuji ,  KATO, Takeharu ,  HIRAYAMA, Tsukasa

IPC分类号： H01L39/24

CPC分类号： H01L39/2461 ,  Y10T428/24355