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1.

发明公开
USING DEEP LEARNING TO REDUCE METAL ARTIFACTS 审中-公开

公开(公告)号：EP3743889A1

公开(公告)日：2020-12-02

申请号：EP19700282.7

申请日：2019-01-09

申请人： Koninklijke Philips N.V.

发明人： XU, Shiyu , DANG, Hao

IPC分类号： G06T11/00

2.

发明公开
DEEP LEARNING BASED SCATTER CORRECTION 审中-公开

公开(公告)号：EP3688723A1

公开(公告)日：2020-08-05

申请号：EP18782686.2

申请日：2018-09-28

申请人： Koninklijke Philips N.V.

发明人： XU, Shiyu , PRINSEN, Peter , WIEGERT, Jens , MANJESHWAR, Ravindra, Mohan

IPC分类号： G06T11/00