公开(公告)号：EP2810947A1

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：EP14165141.4

申请日：2010-08-13

申请人： L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE ,  American Air Liquide Inc

发明人： Dussarrat, Christian ,  Omarjee, Vincent ,  Pallem, Venkateswara

IPC分类号： C07F7/00 ,  C23C16/18 ,  C23C16/30

CPC分类号： C07F17/00 ,  C23C16/18

摘要： Disclosed are hafnium- and zirconium-containing precursors and methods of providing the same. The disclosed precursors include a ligand and at least one aliphatic group as substituent selected to have greater degrees of freedom than the usual substituents. The disclosed precursors may be used to deposit hafnium- or zirconium-containing layers using vapor deposition methods such as chemical vapor deposition or atomic layer deposition.

摘要翻译： 公开了含铪和锆的前体及其提供方法。 所公开的前体包括配体和至少一个选自具有比通常取代基更大的自由度的取代基的脂族基团。 所公开的前体可用于使用诸如化学气相沉积或原子层沉积的气相沉积方法沉积含铪层或含锆层。