摘要:
Die Erfindung betrifft eine bedruckstofführende Oberflächenstruktur, vorzugweise für Druckmaschinenzylinder oder deren Aufzüge. Aufgabe der Erfindung ist es, eine Oberflächenstruktur zu entwickeln, die eine bessere Bogenführung gewährleistet indem die Reibungskräfte an den Kontaktstellen von Bedruckstoff und Oberflächenstruktur erhöht werden. Gelöst wird das dadurch, daß auf einem Substrat 3 Strukturelemente 2 angeordnet sind, die eine Tragfläche 4 mit einer Vielzahl von die Oberflächenrauhigkeit erhöhenden Vertiefungen 5 aufweisen.
摘要:
Die Erfindung betrifft eine Walze, vorzugsweise für ein Feuchtwerk einer Druckmaschine. Aufgabe der Erfindung ist es, eine Walze zu schaffen, die eine ausgezeichnete hydrophile Benetzbarkeit aufweist. Gelöst wird das dadurch, daß ein Grundkörper (3) eine Beschichtung (5) trägt, die aus TiALN oder TiCN besteht.
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Die Erfindung betrifft eine bedruckstofführende Oberflächenstruktur, vorzugweise für Druckmaschinenzylinder oder deren Aufzüge. Aufgabe der Erfindung ist es, eine Oberflächenstruktur zu entwickeln, die eine bessere Bogenführung gewährleistet indem die Reibungskräfte an den Kontaktstellen von Bedruckstoff und Oberflächenstruktur erhöht werden. Gelöst wird das dadurch, daß auf einem Substrat 3 Strukturelemente 2 angeordnet sind, die eine Tragfläche 4 mit einer Vielzahl von die Oberflächenrauhigkeit erhöhenden Vertiefungen 5 aufweisen.
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Oberflächenstruktur, vorzugsweise eines Druckmaschinenzylinders, mit einer galvanisch erzeugten und vorzugsweise auf Maß- und Formgenauigkeit geschliffenen Hartchrombeschichtung. Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zu entwickeln, das es gestattet auf der Hartchrombeschichtung eine Oberflächenstruktur herzustellen, die relativ hohe Reibungskräfte zwischen den Kontaktstellen von Bedruckstoff und der Druckmaschinenzylinderbeschichtung gestattet. Gelöst wird das dadurch, daß die Oberflächenstruktur in zwei Verfahrensstufen in Folge hergestellt wird, wobei in einer ersten Verfahrensstufe eine Oberflächenteilstruktur als Punktraster in annähernd gleichmäßiger Zufallsverteilung durch einen ersten Werkstoffabtrag erzeugt wird und in einer zweiten Verfahrensstufe die endgültige Oberflächenstruktur durch einen zweiten das Punktraster einschließenden Werkstoffabtrag erzeugt wird.
摘要:
Um eine galvanisch mit Hartchrom beschichtete, geschliffene metallische Werkstoffoberfläche eines Druckwerksylinders (1) zu strukturieren, wird zunächst eine Schicht aus alkalibeständigem Negativ-Resistmaterial auf die metallische Hartchromoberfläche des Druckwerkszylinders (1) in dünner Schicht aufgebracht, danach mit der alkalibeständigen Negativ-Resistschicht ein Positivrasterfilm in Kontakt gebracht und diese unter der Wirkung einer ultravioletten Lichtquelle durch den Film bestrahlt, wobei durch transparente Teile des Filmes dringendes Licht Teilflächen der alkalibeständigen Negativ-Resistschicht aushärtet, anschließend werden nicht bestrahlte Teile der Negativ-Resistschicht mit einem organischen Lösungsmittelentwickler entfernt und schließlich wird die nach dem Entwicklungsvorgang freiliegende Hartchromschicht durch die Öffnungen der als Netzwerk verbliebenen alkalibeständigen Negativ-Resistschicht anodisch elektrolytisch mittels Natronlauge näpfchenartig (4) vertieft, wobei die Lauge durch eine in geringem Abstand zur Werkstoffoberfläche längs des Druckwerkszylinders (1) angeordnete schmale Eisensiebhohlkathode (9) aufgesprüht wird.
摘要:
Um eine galvanisch mit Hartchrom beschichtete, geschliffene metallische Werkstoffoberfläche eines Druckwerksylinders (1) zu strukturieren, wird zunächst eine Schicht aus alkalibeständigem Negativ-Resistmaterial auf die metallische Hartchromoberfläche des Druckwerkszylinders (1) in dünner Schicht aufgebracht, danach mit der alkalibeständigen Negativ-Resistschicht ein Positivrasterfilm in Kontakt gebracht und diese unter der Wirkung einer ultravioletten Lichtquelle durch den Film bestrahlt, wobei durch transparente Teile des Filmes dringendes Licht Teilflächen der alkalibeständigen Negativ-Resistschicht aushärtet, anschließend werden nicht bestrahlte Teile der Negativ-Resistschicht mit einem organischen Lösungsmittelentwickler entfernt und schließlich wird die nach dem Entwicklungsvorgang freiliegende Hartchromschicht durch die Öffnungen der als Netzwerk verbliebenen alkalibeständigen Negativ-Resistschicht anodisch elektrolytisch mittels Natronlauge näpfchenartig (4) vertieft, wobei die Lauge durch eine in geringem Abstand zur Werkstoffoberfläche längs des Druckwerkszylinders (1) angeordnete schmale Eisensiebhohlkathode (9) aufgesprüht wird.