专利检索 ap:("Nanotronics Imaging, Inc.") AND inv:"NIRMALESWARAN, Aswin, Raghav" 第 1 页

1.

发明公开
IMITATION LEARNING IN A MANUFACTURING ENVIRONMENT 审中-公开

公开(公告)号：EP4298562A1

公开(公告)日：2024-01-03

申请号：EP22760501.1

申请日：2022-02-25

申请人： Nanotronics Imaging, Inc.

发明人： PUTMAN, Matthew, C. , SUNDSTROM, Andrew , LIMOGE, Damas , PINSKIY, Vadim , NIRMALESWARAN, Aswin, Raghav , KIM, Eun-sol

IPC分类号： G06N3/08 , G06N5/04 , G06K9/62

2.

发明公开
SYSTEMS, METHODS, AND MEDIA FOR MANUFACTURING PROCESSES 审中-公开

公开(公告)号：EP4054819A1

公开(公告)日：2022-09-14

申请号：EP20885939.7

申请日：2020-11-06

申请人： Nanotronics Imaging, Inc.

发明人： LIMOGE, Damas , HOUGH, Fabian , NOURI GOOSHKI, Sadegh , NIRMALESWARAN, Aswin, Raghav , PINSKIY, Vadim

IPC分类号： B29C35/02 , B29C35/08 , B29C41/08 , B29C67/02 , B29C70/64 , G05B23/02

3.

发明公开
SYSTEMS, METHODS, AND MEDIA FOR ARTIFICIAL INTELLIGENCE FEEDBACK CONTROL IN ADDITIVE MANUFACTURING 审中-公开

公开(公告)号：EP3774281A1

公开(公告)日：2021-02-17

申请号：EP19781688.7

申请日：2019-03-29

申请人： Nanotronics Imaging, Inc.

发明人： PUTMAN, Matthew, C. , PINSKIY, Vadim , WILLIAMS, James , LIMOGE, Damas , NIRMALESWARAN, Aswin, Raghav , CHRIS, Mario

IPC分类号： B29C64/00 , G06N20/00

4.

发明公开
SYSTEMS, METHODS, AND MEDIA FOR MANUFACTURING PROCESSES 审中-公开

公开(公告)号：EP4028228A1

公开(公告)日：2022-07-20

申请号：EP20864085.4

申请日：2020-09-09

申请人： Nanotronics Imaging, Inc.

发明人： HOUGH, Fabian , PUTMAN, John, B. , PUTMAN, Matthew, C. , PINSKIY, Vadim , LIMOGE, Damas , NIRMALESWARAN, Aswin, Raghav , NOURI GOOSHKI, Sadegh

IPC分类号： B29B11/14 , B29B11/16 , B29C51/02

5.

发明公开
SYSTEMS, METHODS, AND MEDIA FOR ARTIFICIAL INTELLIGENCE PROCESS CONTROL IN ADDITIVE MANUFACTURING 审中-公开

公开(公告)号：EP3921711A1

公开(公告)日：2021-12-15

申请号：EP20790652.0

申请日：2020-04-20

申请人： Nanotronics Imaging, Inc.

发明人： PINSKIY, Vadim , PUTMAN, Matthew, C. , LIMOGE, Damas , NIRMALESWARAN, Aswin, Raghav

IPC分类号： G05B19/418