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    Method for forming and arrangement of barrier layers on a polymeric substrate
    2.
    发明公开
    Method for forming and arrangement of barrier layers on a polymeric substrate 有权
    维多利亚·冯·巴里里奇

    公开(公告)号：EP1466997A1

    公开(公告)日：2004-10-13

    申请号：EP03005270.8

    申请日：2003-03-10

    申请人： Osram Opto Semiconductors GmbH

    发明人： Pätzold, Ralph ,  Gieres, Günter ,  Wittmann, Georg ,  Henseler, Debora ,  Heuser, Karsten

    IPC分类号： C23C14/08 ,  B32B27/00

    CPC分类号： C23C16/56 ,  B32B27/00 ,  C23C14/22 ,  C23C16/44

    摘要： The main subject of the invention is method for forming an arrangement of two ceramic barrier layers (5,10) on a polymeric substrate (1) which comprises the steps of:

    A) Applying a first ceramic barrier layer (5) on the substrate (1),
    B) modifying the surface (5A) of the first barrier layer (5) to introduce new nucleation sites on the surface of this first layer,
    C) forming a second ceramic barrier layer (10) on the first barrier layer (5) using the new nucleation sites.

    The method of the invention allows the deposition of the second ceramic layer with independent nucleation sites so that a barrier stack of enhanced quality is formed.

    摘要翻译： 本发明的主要课题是在聚合物基材（1）上形成两个陶瓷阻挡层（5,10）的布置的方法，该方法包括以下步骤：A）在基底上施加第一陶瓷阻挡层（5） 1），B）改变第一阻挡层（5）的表面（5A）以在该第一层的表面上引入新的成核位置，C）在第一阻挡层（5）上形成第二陶瓷阻挡层（10） ）使用新的成核位点。 本发明的方法允许具有独立成核位点的第二陶瓷层的沉积，从而形成增强质量的阻挡层叠体。