公开(公告)号：EP1271617A2

公开(公告)日：2003-01-02

申请号：EP02100717.4

申请日：2002-06-18

申请人： Philips Corporate Intellectual Property GmbH ,  Koninklijke Philips Electronics N.V.

发明人： Jüstel, Thomas, c/o Philips Corp. Int. Prop. GmbH ,  Hilbig, Rainer, c/o Philips Corp. Int. Prop. GmbH ,  Feldmann, Claus, c/o Philips Corp. Int. Prop. GmbH ,  Jungk, Hans-Otto, c/o Philips Corp. Int. Prop. Gmb ,  Mayr, Walter, c/o Philips Corp. Int. Prop. GmbH

IPC分类号： H01J61/44

CPC分类号： H01J61/44 ,  C09K11/7709 ,  C09K11/7777 ,  C09K11/778

摘要： Niederdruckgasentladungslampe ausgerüstet mit einem Gasentladungsgefäß mit einer Gasfüllung, die Quecksilber enthält, mit Elektroden, mit Mitteln zur Zündung und Aufrechterhaltung einer Gasentladung und mit einer Leuchtstoffbeschichtung, die mindestens eine Leuchtstoffschicht umfasst und einen im UV-C-Leuchtstoff und einen durch UV-C-Strahlung anregbaren Leuchtstoff enthält.

摘要翻译： 低压气体放电灯包括具有含有汞的气体填充物的气体放电容器; 电极（2）; 用于点燃和维持气体放电的装置; 以及由UV-C发光材料（4）制成并且被UV-C辐射激发的涂层。 优选地，UV-C发光材料在基质晶格中含有选自Pb 2+，Bi 3+和Pr 3+的活化剂。 UV-C发光材料选自YPO4，Bi和LuPO4：Bi。

公开(公告)号：EP1271617A3

公开(公告)日：2007-03-14

申请号：EP02100717.4

申请日：2002-06-18

申请人： Philips Intellectual Property & Standards GmbH ,  Koninklijke Philips Electronics N.V.

发明人： Jüstel, Thomas, c/o Philips Corp. Int. Prop. GmbH ,  Hilbig, Rainer, c/o Philips Corp. Int. Prop. GmbH ,  Feldmann, Claus, c/o Philips Corp. Int. Prop. GmbH ,  Jungk, Hans-Otto, c/o Philips Corp. Int. Prop. Gmb ,  Mayr, Walter, c/o Philips Corp. Int. Prop. GmbH

IPC分类号： H01J61/44 ,  C09K11/77

CPC分类号： H01J61/44 ,  C09K11/7709 ,  C09K11/7777 ,  C09K11/778

摘要： Niederdruckgasentladungslampe ausgerüstet mit einem Gasentladungsgefäß (1) mit einer Gasfüllung, die Quecksilber enthält, mit Elektroden (2), mit Mitteln zur Zündung und Aufrechterhaltung einer Gasentladung und mit einer Leuchtstoffbeschichtung, die mindestens eine Leuchtstoffschicht umfasst und einen im UV-C-Leuchtstoff (4) und einen durch UV-C-Strahlung anregbaren Leuchtstoff (4') enthält.