Verfahren zur Herstellung von engtolerierten Widerständen
    2.
    发明公开
    Verfahren zur Herstellung von engtolerierten Widerständen 失效
    一种用于生产紧密公差的电阻进程。

    公开(公告)号:EP0262689A2

    公开(公告)日:1988-04-06

    申请号:EP87114597.5

    申请日:1984-08-06

    IPC分类号: H01C17/24

    摘要: Es wird ein Verfahren zur Herstellung von engtolerierten Wi­derständen beschrieben, bei dem zunächst eine Grobjustierung des Widerstandes auf seinen Sollwert und dann ein von einem Einbrennvorgang gefolgtes Lackieren dieses Widerstandes vor­genommen wird. Anschließend wird eine Feinjustierung mittels Laser-Einzelschüssen durchgeführt, wonach abschließend eine Endlackierung aufgebracht wird. Mit diesem Verfahren soll das Auftreten höherer Wertesprünge ausgeschlossen werden.

    摘要翻译: 描述了一种用于制造紧公差电阻器,其中第一电阻的粗调到其目标值进行,然后通过燃烧 - 在这种电阻的绘画随后的处理。 随后,微调是通过激光瞄准火,此后最后,最终的涂层被施加来进行。 通过这种方法,价值更高的发生跳跃排除。

    Verfahren zur Wertjustierung von Widerständen
    3.
    发明公开
    Verfahren zur Wertjustierung von Widerständen 无效
    一种用于电阻器的调整值的过程。

    公开(公告)号:EP0143891A2

    公开(公告)日:1985-06-12

    申请号:EP84109320.6

    申请日:1984-08-06

    IPC分类号: H01C17/24

    摘要: Es wird ein Verfahren zur Wertjustierung von Widerständen beschrieben, bei dem in Abhängigkeit von dem jeweils geforderten Widerstandswert von einer auf einem Trägerkörper vorgesehenen Widerstandsschicht mittels eines Lasers Teilbereiche entfernt und / oder in die Widerstandsschicht Marken bestimmter Form eingeschnitten werden. Um von störenden Induktivitäten freie Widerstände möglichst exakt definierten Wertes zu erhalten, wird mittels Einzelschüssen des Lasers in die Widerstandsschicht ein Punktraster eingebracht, dessen auf die Gesamtfläche der Widerstandsschicht bezogene Ausdehnung und Lage und/oder dessen Einzelpunktabstände und/oder dessen Einzelpunktgrößen in Abhängigkeit vom geforderten Widerstandswert und weiteren physikalischen Werten gewählt wird bzw. werden.

    摘要翻译: 描述了一种用于在提供的支撑体电阻层上的凹部的分别要求的电阻值的函数去除电阻值调整的过程通过激光部分的装置和/或切割成电阻层品牌特定形状。 为了获得准确地由干扰无电感器的电阻值所限定,由激光的单杆的手段在电阻层中,点格,其与所述电阻层的程度和和/或其中的间距和/或它的个别的点尺寸随位置时所要求的电阻值的总面积引入 被选择和其它物理值或可以。