利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

4 条记录 (耗时 0.017 秒)

    Temperbares Low-e-Schichtsystem; Verfahren zur Herstellung und Low-e-Glasprodukt mit Schichtsystem
    1.
    发明公开
    Temperbares Low-e-Schichtsystem; Verfahren zur Herstellung und Low-e-Glasprodukt mit Schichtsystem 有权
    Temperbares Low-e-Schichtsystem; Verfahren zur Herstellung und Low-e-Glasprodukt mit Schichtsystem

    公开(公告)号：EP1889818A1

    公开(公告)日：2008-02-20

    申请号：EP06016515.6

    申请日：2006-08-08

    申请人： Scheuten Glasgroep ,  Semcoglas GmbH

    发明人： Villari, Valentino, Dr. ,  Nickol, Friedrich Wilhelm

    IPC分类号： C03C17/36 ,  C03C17/34

    CPC分类号： C03C17/36 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/366 ,  C03C2217/732

    摘要： Die Erfindung betrifft ein temperbares Low-e-Schichtsystem (10), das auf ein transparentes Substrat (20) aufbringbar ist, das ausgehend vom Substrat wenigstens folgende Schichten aufweist:
    - Untere Diffusionssperrschicht (30) aus ZnSnO x ;
    - Entspiegelungsschicht (40) aus Titanoxinitrid;
    - Innere Diffusionssperrschicht (50) aus SnO 2 oder ZnSnO x ;
    - Keimschicht (60) aus ZnAlO x ;
    - Reflexionsschicht (70) im IR-Bereich;
    - Blockerschicht (80) aus ZnAlO x ; und
    - Oberschicht (90) aus ZnSnO x ,
    Dabei bestehen die Diffusionssperrschicht (30) und die Oberschicht (90) aus einem Zinkstannat, in dem Zink und Zinn jeweils in Anteilen enthalten sind, die in der Größenordnung von 48-52 Gew.-% liegen.
    Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Low-e-Schichtsystems und ein Glasprodukt mit dem Schichtsystem.

    摘要翻译： 低E值层系统（10）包括由ZnSnO x制成的下扩散层（30），由氮氧化钛制成的抗反射层（40），由SnO 2或ZnSnO x制成的内扩散阻挡层（50）， 由ZnAlO x制成的种子层（60），红外区域中的反射层（70），由ZnAlO x制成的阻挡层（80）和由布置在透明衬底（20）上的ZnSnO x制成的上层（90） 。 扩散层和上层由锡含量为48-52重量％的锡锡酸锌制成。 还包括用于生产低E值层系统的方法的独立权利要求。

    Temperbares Low-e-Schichtsystem; Verfahren zur Herstellung und Low-e-Glasprodukt mit Schichtsystem
    2.
    发明公开
    Temperbares Low-e-Schichtsystem; Verfahren zur Herstellung und Low-e-Glasprodukt mit Schichtsystem 有权
    Temperbares Low-e-Schichtsystem; Verfahren zur Herstellung und Low-e-Glasprodukt mit Schichtsystem

    公开(公告)号：EP1538131A1

    公开(公告)日：2005-06-08

    申请号：EP03027635.6

    申请日：2003-12-02

    申请人： Scheuten Glasgroep ,  Semco Glasbeschichtung GmbH

    发明人： Villari, Valentino, Dr. ,  Nickol, Friedrich Wilhelm

    IPC分类号： C03C17/36

    CPC分类号： C03C17/3618 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/366 ,  C03C2217/73

    摘要： Die Erfindung betrifft ein temperbares Low-e-Schichtsystem, das auf ein Substrat aufbringbar ist und einen Schichtaufbau mit wenigstens einer Silberschicht aufweist. Das Schichtsystem zeichnet sich dadurch aus, dass von dem Substrat (10) ausgehend unter der Silberschicht (60) wenigstens eine Diffusionssperrschicht (20) aus SnO x , ZnSnO x , ZnSnAlO x , ZnO x oder ZnAlO x , eine erste Entspiegelungsschicht (30) aus TiO x , ein Unterblocker (50) aus ZnAlO x und zwischen Schicht (30) und Unterblocker (50)eine interne Diffusionssperrschicht aus SnO x (40) angeordnet sind, und von dem Substrat (10) ausgehend über der Silberschicht (60) wenigstens ein Oberblocker (70) ebenfalls aus ZnAlO x und eine zweite Entspiegelungsschicht (80) aus SnO x angeordnet sind, wobei die erste Entspiegelungsschicht (30) einen höheren Brechungsindex aufweist als die zweite Entspiegelungsschicht (80).
    Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur Herstellung eines temperbaren Low-e-Schichtsystems und ein damit hergestelltes Low-e-Glasprodukt.

    摘要翻译： 耐温低发射层系统由在衬底（10）上具有至少一个银层（60）的层结构组成。 扩散阻挡层（20）位于衬底上，随后是主要非反射层（30），由SnO x制成的内部扩散阻挡层（40）和较低阻挡层。 上阻挡剂位于银层的顶部，其后是次级非反射层。