公开(公告)号：EP1437118A1

公开(公告)日：2004-07-14

申请号：EP02770221.6

申请日：2002-09-27

申请人： Shiseido Co., Ltd. ,  NOF CORPORATION

发明人： OHMORI, Takashi, c/o Shiseido Research Center ,  KAKOKI, Hiroyuki, c/o Shiseido Research Center ,  MIYAHARA, Reiji, c/o Shiseido Research Center ,  NANBA, Tomiyuki, c/o Shiseido Research Center ,  NAKANE, Toshihiko, c/o Shiseido Research Center ,  MARUYAMA, Kei-ichi ,  SAKODA, Takeshi ,  YASUKOHCHI, Tohru ,  TEZUKA, Yoji

IPC分类号： A61K7/00 ,  A61K47/32 ,  A61K7/48 ,  A61K9/08

CPC分类号： A61Q19/00 ,  A61K8/39 ,  A61K8/86 ,  A61K8/90

摘要： A base for a skin external composition comprises, as a main ingredient, an alkylene oxide derivative represented by the following formula (I):

        R 1 O-[(AO) m (EO) n ]-R 2      (I)

wherein AO is an oxyalkylene group having a carbon number of 3 to 4; EO is an oxyethylene group; and R 1 and R 2 may be the same or different, and are a hydrocarbon group having a carbon number of 1 to 4, or a hydrogen atom. The base is a water-soluble base that can exert both of the smooth feeling and the moist feeling.

摘要翻译： 含有环氧烷衍生物的皮肤外用制剂的基材是新的。 含有环氧烷衍生物的皮肤外用制剂的基材是新的。 氧化烯衍生物由式（I）表示。 R 1> O - （（AO）m（EO）n）-R 2>（I）AO：3-4C氧化烯基; EO：氧乙烯基; R1>，R2> H原子或1-4C烃基; 和m，n：1至70之间的摩尔数。氧乙烯基的量为氧化烯和氧化乙烯基总量的20至80重量％。 R 1>和R 2>中的H原子量与烃基的量的比例为0.15以下。