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    Improvements in or relating to the formation of profiled ceramic bodies
    2.
    发明公开
    Improvements in or relating to the formation of profiled ceramic bodies 失效
    Verfahren zur Herstellung profilierer keramischerFormkörper。

    公开(公告)号：EP0105978A1

    公开(公告)日：1984-04-25

    申请号：EP82305265.9

    申请日：1982-10-04

    申请人： TRW Ceramics Limited

    发明人： Wilson, William Ian

    IPC分类号： C04B35/58 ,  C04B41/85

    CPC分类号： C04B41/009 ,  C04B35/584 ,  C04B35/597 ,  C04B41/0018 ,  C04B41/5067 ,  C04B41/87 ,  C04B41/4505 ,  C04B41/4578 ,  C04B35/58 ,  C04B35/58042

    摘要： A profiled body of silicon nitride and aluminium nitride dipped in a silica solution such that the silica infiltrates the pores of the body. This silica, together with unconverted silica present in the body, reacts with the aluminium nitride when the body is subsequently fired at around 1800°C in a controlled atmosphere to form sialon. As all the silica is utilised in the reaction, a sialon is formed which can retain its strength up to around 100,000 p.s.i. and at temperatures above 1000 * C.
    Alternatively, the body is infiltrated with alumina to form sialon when fired to at least 1800°C in a controlled atmosphere.

    摘要翻译： 浸渍在二氧化硅溶液中的氮化硅和氮化铝的成型体，使得二氧化硅渗透到身体的孔中。 这种二氧化硅与身体中未转化的二氧化硅一起与氮化铝反应，随后在约1800℃的温度下，在受控的气氛中烧结体以形成赛隆。 由于所有的二氧化硅都用于反应，所以形成了可以保持其强度高达约100,000p.s.i的塞隆。 并且在高于1000℃的温度下。 在受控的气氛中，当身体被氧化铝浸入至少1800摄氏度时形成塞隆。