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1.发明公开Organoruthenium compound for chemical deposition and chemical deposition process using the organoruthenium compound 有权Organorutheniumverbindung用于化学沉积和化学沉积方法使用该Organorutheniumverbindung
公开(公告)号：EP2399923A1
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：EP11171137.0
申请日：2011-06-23
CPC分类号： C07F15/0053 , C23C16/18 , C23C16/45553
摘要： An object of the present invention is to provide an organoruthenium compound which has good film formation characteristics as an organoruthenium compound for chemical deposition, has a high vapour pressure, and can easily form a film even when hydrogen is used as a reactant gas. The present invention relates to an organoruthenium compound, dicarbonyl-bis(5-methyl-2,4-hexanediketonato)ruthenium (II) which can have isomers 1 to 3, wherein the content of the isomer 2 is 30% by mass or more, the content of the isomer 3 is 30% by mass or less, and the balance is the isomer 1.
摘要翻译： 本发明的一个目的是提供一种有机钌化合物，其具有良好的成膜特性，以有机钌化合物用于化学沉积，具有较高的蒸气压，并且可以容易地形成，即使当使用氢气作为反应气体的膜。 本发明涉及在有机钌化合物，二羰基双（5-甲基-2,4- hexanediketonato）钌（II），其可以具有异构体1〜3，worin异构体2的含量是30质量％以上， 异构体3的含量为30质量％或更少，余量为异构体第一
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2.发明授权Organoruthenium compound for chemical deposition and chemical deposition process using the organoruthenium compound 有权Organorutheniumverbindung用于化学沉积和化学沉积方法使用该Organorutheniumverbindung
公开(公告)号：EP2399923B1
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：EP11171137.0
申请日：2011-06-23
IPC分类号： C07F15/00 , C23C16/18 , C23C16/455
CPC分类号： C07F15/0053 , C23C16/18 , C23C16/45553
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