公开(公告)号：EP3258246A1

公开(公告)日：2017-12-20

申请号：EP15882026.6

申请日：2015-10-27

申请人： Toray Research Center, Inc.

发明人： MIYAMOTO, Takashi ,  YOSHIKAWA, Masanobu

IPC分类号： G01N21/62 ,  G01N23/225 ,  G01N27/62

CPC分类号： G01N21/62 ,  G01N23/225 ,  G01N23/2258 ,  G01N27/62 ,  G01N2021/625 ,  H01J49/142

摘要： Provided is a device capable of evaluating an atomic emission profile or cathode luminescence at an exceptional depth-direction resolution at the same time as or separately from a surface analysis method using ion sputtering. An ion-beam-induced atomic emission spectrometer wherein a commercial ultra-high vacuum surface analysis apparatus is provided, within a radius of 30 to 50 cm from a sputtering ion or electron beam irradiation position, with an optical system of a light emission detector and a spectrograph for spectroscopy of an atomic emission spectrum or cathode luminescence emitted from a sample.

摘要翻译： 本发明提供一种能够与使用离子溅射的表面分析方法同时地或与使用离子溅射的表面分析方法分开同时评估在异常深度方向分辨率下的原子发射分布或阴极发光的器件。 一种离子束诱导原子发射光谱仪，其中，在距离溅射离子或电子束照射位置30至50cm的半径内，利用光发射检测器的光学系统提供商用超高真空表面分析装置，以及 用于从样品发射的原子发射光谱或阴极发光的光谱学的光谱仪。