摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ermitteln von Planheitsabweichungen beim Behandeln eines bandförmigen Guts, insbesondere beim Warmwalzen eines dünnen Metallblechs, wobei mit einer TOF-Kamera ein quer zur Bewegungsrichtung des bandförmigen Guts verlaufender Bereich aufgenommen und mittels einer Auswerteeinheit, die mit der TOF-Kamera verbunden ist, eine Planheitsabweichung ermittelbar ist.
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Auswertung eines Produktionsprozesses, bei dem an mindestens einem Produkt zumindest ein Produktionsschritt durchgeführt wird, wobei eine Messvorrichtung eine Messung durchführt, um eine Information zu ermitteln, wobei die Information von einer Eigenschaft des Produkts an einem Messort an der Oberfläche des Produkts zum Zeitpunkt der Messung abhängt, wobei die Information aus dem Ergebnis der Messung erzeugt wird, wobei eine Auswerteeinheit die Information einer Gitterzelle eines mit nur einer einzigen Gitterzelle ausgeführten ersten Gitters oder einer Gitterzelle eines aus mindestens zwei Gitterzellen bestehenden ersten Gitters zuordnet, wobei jeweils eine Gitterzelle des ersten Gitters jeweils einem Oberflächenbereich des Produkts zugeordnet ist und die Auswerteeinheit die Information der Gitterzelle des ersten Gitters zuordnet, in deren Obefflächenbereich der Messort liegt, wobei die Auswerteeinheit die Information und/oder eine von der Information abhängige Sekundärinformation und eine Lageinformation, die die Lage der Gitterzelle des ersten Gitters, dem die Information zugeordnet wurde, innerhalb des ersten Gitters wiedergibt, In einer Datenbank abspeichert, wobei die Auswerteeinheit die Information einer Gitterzelle eines aus einer Anzahl von Gitterzellen bestehenden zweiten Gitters zuordnet, wobei die Anzahl der Gitterzellen des zweiten Gitters größer ist als die Anzahl der Gitterzellen des ersten Gitters, und jeweils eine Gitterzelle des zweiten Gitters jeweils einem Oberflächenbereich des Produkts zugeordnet ist, der kleiner ist, als der Oberflächenbereich, dem eine Gitterzelle des ersten Gitters zugeordnet Ist, und die Auswerteeinheit die Information der Gitterzelle des zweiten Gitters zuordnet, in deren Oberflächenbereich der Messort liegt, wobei die Auswerteeinheit die Information und/oder eine von der Information abhängige Sekundärinformation und eine Lageinformation, die die Lage der Gitterzelle des zweiten Gitters, dem die Information zugeordnet wurde, innerhalb des zweiten Gitters wiedergibt, in der Datenbank abspeichert.