Kieselsäure mit geringem Gehalt an Kieselsäure-Silanolgruppen
    2.
    发明公开
    Kieselsäure mit geringem Gehalt an Kieselsäure-Silanolgruppen 无效
    Kieselsäuremit geringem Gehalt一个Kieselsäure-Silanolgruppen

    公开(公告)号:EP1302444A1

    公开(公告)日:2003-04-16

    申请号:EP02019800.8

    申请日:2002-09-05

    IPC分类号: C01B33/18 C09C1/30 C09C3/12

    摘要: Silylierte Kieselsäure mit einer Dichte an SiOH pro nm 2 kleiner als 0,6 bezogen auf die Oberfläche nach BET-Verfahren (DIN 66131 und 66132). Desweiteren betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung silylierter Kieselsäure, wobei der Herstellungsprozess in 3 aufeinanderfolgenden getrennten Schritten erfolgt, die jeweils in einem eigenen Gefäß erfolgen: (1) Beladung der hydrophilen Ausgangskieselsäure mit Silyliermittel, (2) Reaktion des hydrophilen Kieselsäure mit dem Silyliermittel und (3) Reinigung der hydrophilen Kieselsäure von Silyliermittel und Nebenreaktionsprodukten.

    摘要翻译: 提供了具有特定硅键合羟基(SiOH)基团的BET表面积每nm 2的硅烷化二氧化硅(I)。 新的BET表面积每nm 2具有小于0.6个硅键合羟基(SiOH)基团的硅烷基化二氧化硅(I)。 还包括独立权利要求:(1)通过使亲水二氧化硅与甲硅烷基化剂反应然后除去甲硅烷基化剂和副产物来生产(I); (2)(I)的调色剂,显影剂,电荷控制剂和粉末体系的流动改进剂; (3)可交联聚合物和含有(I)的树脂组合物。