公开(公告)号：EP1702578A1

公开(公告)日：2006-09-20

申请号：EP05006034.2

申请日：2005-03-18

申请人： WaveLight Laser Technologie AG

发明人： Fischer, Dietmar, Dr. ,  Schmidt, Udo

IPC分类号： A61B18/20

CPC分类号： A61B18/203 ,  A61B2018/00452 ,  A61B2018/0047

摘要： Eine Vorrichtung für die Lichtbehandlung der Haut weist eine Lichtquelle (101) und ein lichtintensitätsmodulierendes Element (103) zum Erzeugen eines Lichtintensitätsprofils (104) auf, mit dem die zu behandelnde Haut (105) bestrahlt wird, wobei abrupte Veränderungen der Strahlungsintensität, insbesondere an den Rändern der bestrahlten Flecken, vermieden sind.

摘要翻译： 该装置具有光源（101）和布置在由光源发射的光的光线的路径中的强度调制单元（103）。 该单位产生在待治疗的皮肤上的光强度分布，具有最大和最小强度。 光的强度在最小强度的范围内不断地或逐步地变化。 该单元具有一组偏振滤光片。 还包括用于去除皮肤色素沉着的方法的独立权利要求。