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    基板処理装置および基板処理方法
    2.
    发明专利
    基板処理装置および基板処理方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2017120887A

    公开(公告)日：2017-07-06

    申请号：JP2016219389

    申请日：2016-11-10

    Applicant: 東京エレクトロン株式会社

    Inventor： 池田 義謙 ,  谷口 裕樹 ,  篠原 和義

    IPC: H01L21/304

    Abstract: 【課題】カップの周壁部の上面に付着した異物を除去することのできる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 【解決手段】実施形態の一態様に係る基板処理装置は、保持部と、処理液供給部と、カップと、洗浄液供給部とを備える。保持部は、基板を保持する。処理液供給部は、基板に対して処理液を供給する。カップは、底部と、底部から立設される筒状の周壁部と、周壁部の上方に設けられ基板から飛散した処理液を受ける液受部と、周壁部の上面に周方向に沿って形成された溝部とを有し、保持部を取り囲む。洗浄液供給部は、周壁部の上面に対して洗浄液を供給する。 【選択図】図5

    基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体
    3.
    发明专利
    基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 审中-公开

    公开(公告)号：JP2019125634A

    公开(公告)日：2019-07-25

    申请号：JP2018003937

    申请日：2018-01-15

    Applicant: 東京エレクトロン株式会社

    Inventor： 野中 純 ,  丸山 裕隆 ,  福田 喜輝 ,  池田 義謙 ,  谷口 裕樹

    IPC: H01L21/304

    Abstract: 【課題】乾燥処理後における基板裏面への液残りを検出すること。 【解決手段】実施形態に係る基板処理装置は、保持部と、ノズルと、検知部と、制御部とを備える。保持部は、基板を保持して回転させる。ノズルは、基板の裏面に向けて処理液を吐出する。検知部は、対象領域内の物体の温度を測定する。制御部は、保持部を制御して、基板を回転させることによって基板から処理液を振り切って基板を乾燥させる乾燥処理を行った後、検知部による検知結果に基づき、基板の裏面における処理液の液残りの有無を判定する。 【選択図】図3

    基板処理装置
    4.
    发明专利
    基板処理装置 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018133429A

    公开(公告)日：2018-08-23

    申请号：JP2017025796

    申请日：2017-02-15

    Applicant: 東京エレクトロン株式会社

    Inventor： 池田 義謙 ,  小早川 亮 ,  谷口 裕樹 ,  篠原 和義

    IPC: H01L21/304

    Abstract: 【課題】ダミーディスペンスされた処理液による装置内部の汚染を防止すること。 【解決手段】実施形態に係る基板処理装置は、保持部と、ノズルと、ノズルバスと、移動機構とを備える。保持部は、基板を保持する。ノズルは、保持部に保持された基板の上方から基板に処理液を吐出する。ノズルバスは、ノズルを基板の上方から退避させた退避位置に配置され、退避位置に退避させたノズルから吐出された処理液を受けて外部へ排出する。移動機構は、基板の上方における処理位置と退避位置との間でノズルを水平移動させる。また、ノズルは、水平移動時と同一の高さ位置からノズルバスに対して処理液を吐出する。また、ノズルバスは、側壁と、洗浄液供給部とを備える。側壁は、退避位置に退避させたノズルにおける処理液の吐出口の高さ位置よりも高い位置まで延在する。洗浄液供給部は、側壁に洗浄液を供給する。 【選択図】図5

    基板処理装置および基板処理方法
    6.
    发明专利
    基板処理装置および基板処理方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2020188289A

    公开(公告)日：2020-11-19

    申请号：JP2020139388

    申请日：2020-08-20

    Applicant: 東京エレクトロン株式会社

    Inventor： 池田 義謙 ,  谷口 裕樹 ,  篠原 和義

    IPC: H01L21/304

    Abstract: 【課題】カップの周壁部の上面に付着した異物を除去することのできる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 【解決手段】実施形態の一態様に係る基板処理装置は、保持部と、処理液供給部と、カップと、洗浄液供給部とを備える。保持部は、基板を保持する。処理液供給部は、基板に対して処理液を供給する。カップは、底部と、底部から立設される筒状の周壁部と、周壁部の上方に設けられ基板から飛散した処理液を受ける液受部と、周壁部の上面に周方向に沿って形成された溝部とを有し、保持部を取り囲む。洗浄液供給部は、周壁部の上面に対して洗浄液を供給する。 【選択図】図5

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