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    フォトリソグラフィ用現像液及びレジストパターン形成方法
    111.
    发明专利
    フォトリソグラフィ用現像液及びレジストパターン形成方法 审中-公开
    用于光刻和电阻图案形成方法的开发解决方案

    公开(公告)号：JP2016194576A

    公开(公告)日：2016-11-17

    申请号：JP2015074166

    申请日：2015-03-31

    Applicant: 東京応化工業株式会社

    Inventor： 千坂 博樹 ,  野田 国宏 ,  三隅 浩一 ,  塩田 大

    IPC: H05K3/06 ,  G03F7/32

    Abstract: 【課題】マイグレーション又は基板や配線の表面の酸化抑制効果に優れるフォトリソグラフィ用現像液及びレジストパターン形成方法を提供する。 【解決手段】(A)一般式(1)で表されるイミダゾール化合物と(B)水及び/又は有機溶剤とを含むフォトリソグラフィ用現像液。(式中、R 2 は置換基を有してもよい芳香族基であり、R 4 は、それぞれ独立にハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホナト基、又は有機基であり、nは0〜3の整数である。) 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于光刻的显影液和抗蚀剂图形形成方法，其具有抑制布线和基板表面的迁移和氧化的优异效果。解决方案：用于光刻的显影液包含（A）由 通式（1）和（B）水和/或有机溶剂。 （式中，R表示可具有取代基的芳香族基团，Rare各自独立地为卤素原子，羟基，巯基，硫醚基，甲硅烷基，硅烷醇基，硝基，亚硝基， 磺酸基，膦基，膦酰基，膦酸酯基或有机基; n为0〜3的整数。）选择的图：无

    ビニル基含有化合物を含有する硬化性組成物
    113.
    发明专利
    ビニル基含有化合物を含有する硬化性組成物 审中-公开
    包含含乙烯基的化合物的可固化组合物

    公开(公告)号：JP2016069637A

    公开(公告)日：2016-05-09

    申请号：JP2015171984

    申请日：2015-09-01

    Applicant: 東京応化工業株式会社

    Inventor： 千坂 博樹 ,  野田 国宏 ,  塩田 大

    IPC: C07C43/215 ,  C08L29/10 ,  C08F16/12

    Abstract: 【課題】ビニロキシ基等の形でビニル基を含む化合物を含有し、硬化により、耐溶剤性及び耐熱性に優れる硬化膜を与える硬化性組成物を提供する。 【解決手段】本発明に係る硬化性組成物は、下記式(1)で表されるビニル基含有化合物と、電子対供与性化合物とを含有する。式(1)中、W 1 及びW 2 は下記式(2)で表される基、水酸基、又は(メタ)アクリロイルオキシ基、環Y 1 及び環Y 2 は芳香族炭化水素環、Rは単結合又は特定の二価基、R 3a 及びR 3b は独立にシアノ基、ハロゲン原子、又は1価炭化水素基を示し、n1及びn2は0〜4の整数を示す。式(2)中、環Zは芳香族炭化水素環、Xは単結合又は−S−で示される基、R 1 は単結合又は炭素数1〜4のアルキレン基、R 2 は1価炭化水素基等の特定の置換基、mは0以上の整数を示す。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种包含含有乙烯基氧基等乙烯基的化合物的固化性组合物，通过固化得到耐溶剂性和耐热性优异的固化膜。溶液： 本发明包括由下式（1）表示的含乙烯基的化合物和电子对给予化合物。 在式（1）中，Wand W表示由下式（2）表示的基团，羟基或（甲基）丙烯酰氧基; 环Y和Y代表芳烃环; R表示单键或特定二价基团; Rand Reach独立地表示氰基，卤素原子或一价烃基; n1和n2表示0〜4的整数。式（2）中，环Z表示芳香族烃环。 X表示单键或-S-表示的基团; R表示单键或碳原子数为1〜4的亚烷基; R表示特定取代基，例如一价烃基; m表示0以上的整数。选择图示：无

    パターン形成方法
    115.
    发明专利
    パターン形成方法 有权
    图案形成方法

    公开(公告)号：JP2015194720A

    公开(公告)日：2015-11-05

    申请号：JP2015029058

    申请日：2015-02-17

    Applicant: 東京応化工業株式会社

    Inventor： 野田 国宏 ,  千坂 博樹 ,  塩田 大

    IPC: G03F7/039 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004

    Abstract: 【課題】低露光量で、所望する断面形状のレジストパターンを形成することができ、且つ、耐薬品性に優れるパターンを形成できる、ポジ型の感光性樹脂組成物を用いるパターン形成方法を提供すること。 【解決手段】感光性樹脂組成物として、(D)加熱によりイミダゾール化合物を発生させる化合物を含有する物を用い、露光及び現像によりパターン化された感光性樹脂組成物からなる塗布膜中に、酸性基を有する成分が含まれる状態で、当該パターン化された塗布膜を所定の温度に加熱して、パターンを形成する。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题：为了提供使用正型感光性树脂组合物的图案形成方法，通过该图案形成方法可以以低剂量的曝光光形成具有期望的横截面形状的抗蚀剂图案，并且可以具有优异的耐化学性的图案 在图案形成方法中，使用含有（D）通过加热生成咪唑化合物的化合物的感光性树脂组合物。 虽然包含通过曝光和显影图案化的感光性树脂组合物的涂膜含有具有酸基的组分，但是将图案化的涂膜加热至预定温度以形成图案。

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