渦抑止システム及び浮遊体
    12.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2019011689A

    公开(公告)日:2019-01-24

    申请号:JP2017127520

    申请日:2017-06-29

    Abstract: 【課題】空気吸込渦が発生した場合に、空気吸込渦を縮小または消滅させる。 【解決手段】水WTに浮かぶ浮遊体1bと、浮遊体1bをポンプの吸込水槽TKに発生した空気吸込渦VTへ吸込水槽TKの水上を移動させる移動手段Mと、を有する。移動手段Mは、浮遊体1bが接続されているワイヤーWと、ワイヤーWを牽引可能な牽引機構B1,B2とを備える。また、ワイヤーWは複数あり、牽引機構B1,B2も複数あり、牽引機構それぞれは対応するワイヤーを巻き上げ可能である。 【選択図】図5

    ルーツ型真空ポンプ及びルーツ型真空ポンプの運転方法

    公开(公告)号:JP2018173026A

    公开(公告)日:2018-11-08

    申请号:JP2017071564

    申请日:2017-03-31

    Abstract: 【課題】汎用性が高く、効率的にガスの液化、固化を防止できるルーツ型真空ポンプ及びルーツ型真空ポンプの運転方法の提供。 【解決手段】ルーツ型真空ポンプ1は、ルーツ型のロータ51が配置された複数のポンプ室40cを有し、吸気したガスを複数のポンプ室40cで多段圧縮して排気するルーツ型真空ポンプ1であって、複数のポンプ室40cのうち、少なくともいずれか一つのポンプ室40cから排出された圧縮ガスの一部を、当該ポンプ室40cよりも吸気側に返送する圧縮ガス返送装置70を有する。 【選択図】図2

    めっき装置及びめっき装置の気泡除去方法

    公开(公告)号:JP6937972B1

    公开(公告)日:2021-09-22

    申请号:JP2021530232

    申请日:2021-02-25

    Abstract: 基板の被めっき面に滞留した気泡に起因して基板のめっき品質が悪化することを抑制することができる技術を提供する。 めっき装置1000は、めっき液を貯留するとともに、内部にアノード11が配置されためっき槽10と、アノードよりも上方に配置されて、カソードとしての基板を基板の被めっき面が下方を向くように保持するとともに、基板の被めっき面の外周縁よりも下方に突出したリング31を有する基板ホルダ30と、基板ホルダを回転させる回転機構40と、基板ホルダを昇降させる昇降機構50と、を備え、リングの下面の一部には、下方側に向けて突出した少なくとも1つの突起35が配置されている。

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