公开(公告)号：JP2010501065A

公开(公告)日：2010-01-14

申请号：JP2009524721

申请日：2007-07-16

Applicant: ナノキャップ テクノロジーズ リミテッド ライアビリティ カンパニー

Inventor： アーサー ケステン ,  ジャック ブレシュナー

IPC: F24F3/12

CPC classification number: F24F3/147 ,  B01D53/229 ,  B01D53/268 ,  F24F3/1417 ,  F24F2003/1435 ,  F24F2003/144

Abstract: ガス流を除湿するためのプロセスおよび装置を提供する。 本プロセスは、ａ）少なくともそのいくつかが毛管凝縮を生じることができるように動作可能にサイズ設定された複数の孔と、第１の側部と、第２の側部とを備えた浸透膜を有する半透壁を提供するステップと、ｂ）半透壁によって部分的に形成された区画内に浸透流体を収容するステップであって、浸透膜の第２の側部は、浸透流体に露出するステップと、ｃ）浸透膜の第１の側部を除湿されるガス流に露出するステップと、ｄ）除湿プロセス中に、浸透膜全体に十分高い水濃度勾配を保持して、浸透膜を通る水の流量を得るステップとを含む。 該装置は、少なくとも１つの半透性浸透壁と、浸透壁によって部分的に形成された少なくとも１つのガス流区画と、浸透壁によって部分的に形成された少なくとも１つの浸透流体区画とを含む。 各半透性浸透壁は、第１の側部と第２の側部とを備えた浸透膜を有する。 各浸透膜の第１の側部はガス流区画に露出し、各浸透膜の第２の側部は浸透流体区画に露出する。

公开(公告)号：JP5085652B2

公开(公告)日：2012-11-28

申请号：JP2009524721

申请日：2007-07-16

Applicant: ナノキャップ テクノロジーズ リミテッド ライアビリティ カンパニー

Inventor： アーサー ケステン ,  ジャック ブレシュナー

IPC: B01D53/26 ,  F24F3/14

CPC classification number: F24F3/147 ,  B01D53/229 ,  B01D53/268 ,  F24F3/1417 ,  F24F2003/1435 ,  F24F2003/144