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公开(公告)号：JP2019189942A
公开(公告)日：2019-10-31
申请号：JP2019071131
申请日：2019-04-03
Applicant: エア・ウォーター株式会社
Inventor： 西川 晃司
Abstract: 【課題】第1にPF値を適正値まで速やかに上昇させ、第2にパージの時間を短縮する、これにより処理時間の短縮を図る、金属の焼鈍方法を提供する。 【解決手段】炭素源であるCOを含むとともに炉内へ導入する前にはCO 2 とH 2 Oを実質的に含まない雰囲気ガスを、少なくとも昇温段階において使用する。CO濃度はPF値(CO% 2 /CO 2 %)の分子であり、炭素源であるCOを含む上記雰囲気ガスを導入することにより、PF値は速やかに上昇する。また、CO 2 濃度はPF値(CO% 2 /CO 2 %)の分母であり、CO 2 を実質的に含まない上記雰囲気ガスの導入は、PF値の上昇に対する阻害要因がない。したがって、昇温段階において上記雰囲気ガスを使用することによりPF値を速やかに上昇させ、処理時間の短縮を図ることができる。 【選択図】なし
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2020132260A
公开(公告)日：2020-08-31
申请号：JP2019032446
申请日：2019-02-26
Applicant: エア・ウォーター株式会社
IPC: B67D1/08
Abstract: 【課題】使用者の要求に応じて適量の炭酸水を適時に生成し出水することができ、衛生的に良好な炭酸水ディスペンサを提供する。 【解決手段】本発明は、炭酸水38を適時に生成し、出水することが可能な炭酸水ディスペンサ10であって、炭酸水38を加圧下で生成する生成部31と、炭酸水38を製造するための飲料水を、生成部31に供給する飲料水供給部32と、炭酸水38を製造するための炭酸ガスを、飲料水が供給された生成部31に供給する炭酸ガス供給部33と、生成部31で生成された炭酸水38を出水する出水部と、飲料水供給部32、炭酸ガス供給部33及び出水部を制御する制御部43と、を備える。 【選択図】 図1
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公开(公告)号：JP2020132259A
公开(公告)日：2020-08-31
申请号：JP2019032445
申请日：2019-02-26
Applicant: エア・ウォーター株式会社
IPC: B67D1/08
Abstract: 【課題】炭酸ガスの溶解度を高くすることができ、強炭酸水の生成を可能にする炭酸水ディスペンサを提供する。 【解決手段】本発明は、炭酸水38を生成し出水することが可能な炭酸水ディスペンサ10であって、前記炭酸水38を加圧下で生成する生成部31と、前記生成部31に、前記炭酸水38を製造するための飲料水15bを供給する飲料水供給部32と、前記飲料水15bが供給された生成部31に、前記炭酸水38を製造するための炭酸ガスを供給する炭酸ガス供給部33と、前記生成部31で生成された炭酸水38を出水する出水部と、を備え、前記生成部31には、前記飲料水供給部32から供給された飲料水15bに、前記炭酸ガス供給部33から供給される炭酸ガスを溶解させる際に、当該飲料水15bを撹拌する撹拌部34が設けられていることを特徴とする。 【選択図】 図1
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公开(公告)号：JP6935326B2
公开(公告)日：2021-09-15
申请号：JP2017252762
申请日：2017-12-28
Applicant: エア・ウォーター株式会社
Inventor： 西川 晃司
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公开(公告)号：JP2019119892A
公开(公告)日：2019-07-22
申请号：JP2017252762
申请日：2017-12-28
Applicant: エア・ウォーター株式会社
Inventor： 西川 晃司
Abstract: 【課題】高濃度CO雰囲気ガスを使用した浸炭において、スーティング,浸炭深さのばらつきおよび異常組織の発生を効果的に防止するガス浸炭方法を提供する。 【解決手段】雰囲気中に処理品を存在させた状態で、昇温工程,前均熱工程,浸炭工程を行うガス浸炭方法であって、 上記雰囲気に、CO濃度が40容量%以上の高濃度CO雰囲気ガスを使用し、 上記昇温工程の開始から上記前均熱工程が終了するまでのあいだ、上記雰囲気のカーボンポテンシャルを0.8%以下に制御する雰囲気制御を行う。 これにより、高濃度CO雰囲気ガスを使用した浸炭において、昇温時に温度が上がりきらないときに発生するスーティングを抑制できる。また、昇温や前均熱の過程で起こる炭素の侵入を抑え、浸炭深さのばらつきや異常組織の発生を抑制することができる。 【選択図】なし
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