公开(公告)号：JP2016526699A

公开(公告)日：2016-09-05

申请号：JP2016519621

申请日：2014-06-11

Applicant: ケーエルエー−テンカー コーポレイション ,  ケーエルエー−テンカー コーポレイション

Inventor： ユン−ホ チュワーン ,  ユン−ホ チュワーン ,  シヤオシュイ ルゥ ,  シヤオシュイ ルゥ ,  ジョン フィールデン ,  ジョン フィールデン

IPC: G02F1/37 ,  H01S3/10

CPC classification number: H01S3/109 ,  G02F1/353 ,  G02F1/3534 ,  G02F1/3558 ,  G02F2001/3507 ,  G02F2001/354 ,  G02F2201/17 ,  G02F2203/15 ,  H01S3/0092

Abstract: 深紫外線(DUV)連続波(CW)レーザーは、約1μm〜1.1μmの対応する波長の基本波周波数を発生させるように構成された基本波CWレーザーと、3次高調波及び任意に2次高調波を発生させる1つ以上の周期分極反転非線形光学(NLO)結晶を含む3次高調波発生器モジュールと、4次高調波発生器モジュール及び5次高調波発生器のうちの1つとを備える。4次高調波発生器モジュールは、基本波周波数と3次高調波とを組み合わせて4次高調波を発生させるように構成された、基本波周波数で共振する空洞を備える。4次高調波発生器モジュールは、基本波周波数と3次高調波とを組み合わせて5次高調波を発生させるための、基本波周波数で共振する空洞、または2次高調波と3次高調波とを組み合わせて5次高調波を発生させるための、2次高調波周波数で共振する空洞のいずれかを備える。

Abstract translation: 深紫外线（DUV）的连续波（CW）激光器，其被配置为生成关于1Myuemu〜1.1Myuemu，3次谐波和任选第二谐波的波长对应的基本频率的基波CW激光 包括第三谐波发生器模块包括一个或更多周期性极化的非线性光学（NLO）晶体，以产生一个波时，四次谐波生成器模块和第五谐波发生器的一个。 第四谐波发生器模块包括一个基本频率的组合和三次谐波被配置以产生一第四谐波，即谐振在基波频率的空腔。 第四谐波发生器模块包括一个基本频率以及用于通过组合第三谐波生成五次谐波，空腔谐振在基频或所述第二谐波和第三谐波 用于通过组合生成的第五谐波包括谐振在二次谐波频率的空腔中的一个。