排ガス浄化用触媒
    3.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2020182913A

    公开(公告)日:2020-11-12

    申请号:JP2019088708

    申请日:2019-05-09

    Abstract: 【課題】高Ga条件下、A/Fがリッチ/リーンを繰り返す過渡域において、浄化性能が向上した排ガス浄化用触媒の提供。 【解決手段】基材上に貴金属、酸化セリウム及び酸化ジルコニウムを含む複合酸化物、並びに酸化アルミニウムを含む触媒コート層を有する排ガス浄化用触媒であって、触媒コート層において、コート層の平均厚さが20〜100μmの範囲内であり、水中重量法により測定した空隙率が50〜80容量%の範囲内であり、空隙全体の0.5〜50容量%が、5以上のアスペクト比を有する高アスペクト比細孔からなり、前記高アスペクト比細孔は、前記基材の排ガスの流れ方向に垂直な触媒コート層断面の断面画像における細孔の円相当径が2〜50μmの範囲内であり、かつ平均アスペクト比が10〜50の範囲内であり、かつ貴金属が、空隙の周辺並びに酸化セリウム及び酸化ジルコニウムを含む複合酸化物及び酸化アルミニウムに担持されている。 【選択図】図5

    排ガス浄化用触媒
    5.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2020182915A

    公开(公告)日:2020-11-12

    申请号:JP2019088769

    申请日:2019-05-09

    Abstract: 【課題】高Ga条件下、A/Fがリッチである雰囲気において、浄化性能が向上した排ガス浄化用触媒を提供する。 【解決手段】基材上に貴金属及び金属酸化物を含む触媒コート層を有する排ガス浄化用触媒であって、触媒コート層において、コート層の平均厚さが50μm〜100μmの範囲内であり、水中重量法により測定した空隙率が50容量%〜80容量%の範囲内であり、空隙全体の0.5容量%〜50容量%が、5以上のアスペクト比を有する高アスペクト比細孔からなり、前記高アスペクト比細孔は、前記基材の排ガスの流れ方向に垂直な触媒コート層断面の断面画像における細孔の円相当径が2μm〜50μmの範囲内であり、かつ平均アスペクト比が10〜50の範囲内であり、かつ全貴金属量の80質量%以上が、触媒コート層の厚さ方向において排ガスに接する表面側を0%、基材に接する側を100%としたときに、0%から25%以上70%以下の範囲に存在する、前記排ガス浄化用触媒に関する。 【選択図】図5

    排ガス浄化触媒装置
    7.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021126636A

    公开(公告)日:2021-09-02

    申请号:JP2020024259

    申请日:2020-02-17

    Abstract: 【課題】 リーン時及びリッチ時双方において、高い効率でNO x を浄化することのできる、排ガス浄化触媒装置を提供すること。 【解決手段】 基材と、前記基材上のフロント側触媒コート層及びリア側触媒コート層とを有する排ガス浄化触媒装置であって、前記フロント側触媒コート層は、前記基材の排ガス流れ上流端から、前記基材の長さの10%以上90%以下の長さを有し、前記リア側触媒コート層は、前記基材の排ガス流れ下流端から、前記基材の長さの10%以上90%以下の長さを有し、前記フロント側触媒コート層は、触媒貴金属と、OSC材を実質的に含まない無機酸化物粒子とを含有し、前記リア側触媒コート層は、触媒貴金属と、OSC材を含む無機酸化物粒子とを含有し、かつ、前記フロント側触媒コート層及び前記リア側触媒コート層に含まれる前記触媒貴金属が、Rhを含み、かつ、Rh以外の触媒貴金属を実質的に含まない、排ガス浄化触媒装置。 【選択図】なし

    排ガス浄化触媒装置
    9.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2018199094A

    公开(公告)日:2018-12-20

    申请号:JP2017103680

    申请日:2017-05-25

    Abstract: 【課題】HC及びCOの酸化浄化性能に優れるとともに、リーン雰囲気下でもNO x 浄化性能が高い、排ガス浄化触媒装置を提供すること。 【解決手段】金属酸化物粒子MO及び金属酸化物粒子MOに担持されたPd及びPtを含む下層1と、ジルコニア含有金属酸化物粒子ZrO及びジルコニア含有金属酸化物粒子ZrOに担持されたRhを含む上層2とを有する排ガス浄化触媒装置10であって、下層1が、排ガス流れ上流側の下層前段部1fと、排ガス流れ下流側の下層後段部1rとを含み、下層前段部1fが、1.8g/L以上のPd、及び0.05g/L以上のPtを含み、下層後段部1rが、0.10g/L以上のPdを含み、且つ、Ptを含まないか又は0.10g/L以下の範囲でPtを含み、上層2のジルコニア含有金属酸化物粒子ZrOの量が60g/L以上140g/L以下であって、且つ上層2のCeO 2 換算のCeの量が7g/L以下である、排ガス浄化触媒装置10。 【選択図】図1

    排ガス浄化用触媒
    10.
    发明专利

    公开(公告)号:JPWO2017213105A1

    公开(公告)日:2019-04-04

    申请号:JP2017020879

    申请日:2017-06-05

    Abstract: 本発明に係る排ガス浄化用触媒は、基材10と触媒コート層30とを備える。触媒コート層30は、下層32と中層34と上層36とを有する積層構造に形成されている。上層36は、RhとCe含有酸化物とを含む。下層32は、PdとCe含有酸化物とを含む。中層34は、Pdを含み、かつ、Ce含有酸化物を含まないCeレス層である。上層36におけるCeの含有量Aに対する下層32におけるCeの含有量Bの比(B/A)が、2≦(B/A)である。

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