アブレーション中の灌流制御
    3.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2020081879A

    公开(公告)日:2020-06-04

    申请号:JP2019208496

    申请日:2019-11-19

    IPC分类号: A61B18/12

    摘要: 【課題】灌流アブレーションシステムの作動方法を提供すること。 【解決手段】一実施形態では、灌流アブレーションシステムは、心臓の心室に挿入されるプローブを含み、そのプローブは、電極と、心筋の温度を示す温度信号を提供する温度センサと、心筋を灌流する灌流チャネルと、を含む。灌流アブレーションシステムはまた、灌流チャネル内に灌流流体を送り出すポンプと、電極によって印加される高周波(RF)電力を発生させて心筋をアブレーションするためのRF信号発生器と、コントローラと、を含む。コントローラは、温度信号を受信し、温度信号に基づいて経時的な温度の変化率を計算し、少なくとも計算された温度の変化率に基づいて、灌流チャネルを介して心筋を灌流する灌流速度を計算し、灌流信号をポンプに供給して、計算された灌流速度で灌流流体によって心筋を灌流させる。 【選択図】図1

    温度変動が小さい心筋組織アブレーション

    公开(公告)号:JP2021020064A

    公开(公告)日:2021-02-18

    申请号:JP2020125133

    申请日:2020-07-22

    IPC分类号: A61B18/12

    摘要: 【課題】アブレーション処置中に心筋組織の温度を制御すること。 【解決手段】心腔に挿入するための、遠位端を有する、管と、エネルギーを心筋組織に搬送する、遠位端にある、電極と、組織の温度を示す信号を出力する、遠位端にある、温度センサと、遠位端に流体を送達する、管内に収容された、チャネルと、遠位端にあり、チャネルに連結された、流体ポートと、を有する医療用プローブを含むシステム。システムはまた、所定のレベルのエネルギーを電極に印加する発生器と、制御可能な流量でチャネル内に流体を送り込むポンプと、発生器が一定レベルのエネルギーを印加する間、55℃以下である所定の温度と示された温度との差が±2.5℃以下となるように、信号に応答して流量を制御するプロセッサと、を含む。 【選択図】図1

    アブレーション中の灌流制御
    6.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2020081880A

    公开(公告)日:2020-06-04

    申请号:JP2019208501

    申请日:2019-11-19

    IPC分类号: A61B18/14

    摘要: 【課題】灌流アブレーションシステムを提供すること。 【解決手段】一実施形態では、灌流アブレーションシステムは、心臓の心室に挿入されるプローブを含み、そのプローブは、電極と、心筋の温度を示す温度信号を提供する温度センサと、心筋を灌流する灌流チャネルと、を含む。灌流アブレーションシステムはまた、灌流チャネル内に灌流流体を送り出すポンプと、電極によって印加される高周波(RF)電力を発生させて心筋をアブレーションするためのRF信号発生器と、コントローラと、を含む。コントローラは、温度信号を受信し、温度信号に基づいて経時的な温度の変化率を計算し、少なくとも計算された温度の変化率に基づいて、灌流チャネルを介して心筋を灌流する灌流速度を計算し、灌流信号をポンプに供給して、計算された灌流速度で灌流流体によって心筋を灌流させる。 【選択図】図1