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    樹脂、レジスト組成物及びパターン形成方法
    5.
    发明专利
    樹脂、レジスト組成物及びパターン形成方法 有权
    树脂，耐蚀组合物和图案形成方法

    公开(公告)号：JP2016169394A

    公开(公告)日：2016-09-23

    申请号：JP2016109315

    申请日：2016-05-31

    申请人： 住友化学株式会社

    发明人： 市川 幸司 ,  釜淵 明

    IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  C08F220/36

    摘要： 【課題】形状及びフォーカスマージンが良好となるレジスト組成物に用いる樹脂を提供することを目的とする。 【解決手段】式(III)で表される化合物等に由来する構造単位と、単環構造を有し、酸と接触すると脱離基が開裂して、カルボキシル基又はヒドロキシル基を形成する基を備える構造単位及び多環構造を有し、酸と接触すると脱離基が開裂して、カルボキシル基又はヒドロキシル基を形成する基を備える構造単位であるか、又は、少なくとも1つのヒドロキシ基を含有するヒドロキシアダマンチル基を有する構造単位と、を有する樹脂であって、前記式(III)で表される化合物等に由来する構造単位は、前記樹脂の全構造単位において5〜10モル%で含有されてなる樹脂。 [式中、R 2 は水素原子等、R 3 〜R 8 は炭化水素基等、t1は0〜3を表す。] 【選択図】なし

    摘要翻译： 要解决的问题：提供用于形成有利的形状和聚焦余量的抗蚀剂组合物的树脂。解决方案：树脂包括：衍生自由式（III）表示的化合物的结构单元; 和具有单环结构并具有离去基团与酸接触而形成羧基或羟基的基团的结构单元和具有多环结构并具有离去基团断裂的基团的结构单元 通过与酸接触以形成羧基或羟基，或具有含有至少一个羟基的羟基金刚烷基的结构单元。 衍生自由式（III）等表示的化合物的结构单元在树脂的整个结构单元中包括5至10mol％。 在该式中，R表示氢原子等; RTO表示烃基等; t1表示0〜3。选择图：无

    レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
    6.
    发明专利
    レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 有权
    耐蚀组合物及其制造方法

    公开(公告)号：JP2016103023A

    公开(公告)日：2016-06-02

    申请号：JP2015235506

    申请日：2015-12-02

    申请人： 住友化学株式会社

    发明人： 市川 幸司 ,  安江 崇裕 ,  釜淵 明

    IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F20/52 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041

    摘要： 【課題】優れたフォーカスマージン(DOF)で、ラインエッジラフネスを有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。 【解決手段】式(IA)又は式(IB)で表される構造単位を有する樹脂、酸発生剤及び式(II)で表される化合物を含有するレジスト組成物。 [式中、R 23 及びR 39 は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基等;R 24 〜R 29 は、それぞれ水素原子又は炭素数1〜24の炭化水素基等;n’は0〜3の整数;R 40 〜R 49 は、それぞれ水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基等;n4及びn5は、それぞれ0〜3の整数;を表す。] 【選択図】なし

    摘要翻译： 要解决的问题：提供一种抗蚀剂组合物，其能够产生具有优异的边缘粗糙度的优异的聚焦余量（DOF）的抗蚀剂图案。溶剂：抗蚀剂组合物含有具有由式（IA）或式 （IB），酸产生剂和由式（II）表示的化合物。 [式中，Rand Reach表示可具有卤素原子的1-6C烷基等; Rto Reach代表氢原子，1-24C烃基等; n'代表0-3的整数; Rto Reach代表氢原子，1-12C烃基等; n4和n5各自表示0-3的整数。]选择的图示：无

    レジスト組成物
    7.
    发明专利
    レジスト組成物 审中-公开
    耐腐蚀组合物

    公开(公告)号：JP2015072488A

    公开(公告)日：2015-04-16

    申请号：JP2014237603

    申请日：2014-11-25

    申请人： 住友化学株式会社

    发明人： 釜淵 明 ,  山下 裕子

    IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F220/26 ,  C08F8/12 ,  C08K5/42 ,  C08K5/19 ,  C08L33/14 ,  G03F7/004

    摘要： 【課題】優れた解像度を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、 酸発生剤と、式(I’)で表される化合物とを含有するレジスト組成物。[式(I’)中、R’ 1 、R’ 2 、R’ 3 及びR’ 4 は、それぞれ独立に、C 1 〜C 8 アルキル基を表す。A’ 1 は、置換基を有していてもよい2価のC 3 〜C 36 飽和環状炭化水素基又は置換基を有していてもよい2価のC 6 〜C 20 芳香族炭化水素基を表し、該飽和環状炭化水素基及び該芳香族炭化水素基はヘテロ原子を含んでいてもよい。] 【選択図】なし

    摘要翻译： 要解决的问题：提供能够得到具有优异分辨率的图案的抗蚀剂组合物。解决方案：抗蚀剂组合物包含：具有酸不稳定基团并且不溶于或几乎不溶于碱性水溶液而变成 通过酸的作用与碱性水溶液溶解; 酸发生器; 和由式（I'）表示的化合物。 在式（I'）中，R'，R'，R'和R“独立地表示1-8C的烷基; A表示可以具有取代基的3-36C二价饱和环状烃基或可以具有取代基的6-20C二价芳香族烃基，其中饱和环状烃基和芳香族烃基可以含有杂原子 。