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    水素製造システムおよび水素製造方法
    2.
    发明专利
    水素製造システムおよび水素製造方法 有权
    氢生产系统和方法

    公开(公告)号：JP2015168608A

    公开(公告)日：2015-09-28

    申请号：JP2014046323

    申请日：2014-03-10

    申请人： 千代田化工建設株式会社

    发明人： 三栗谷 智之 ,  今川 健一 ,  河合 裕教 ,  中島 悠介 ,  神田 剛紀

    IPC分类号： C01B3/26

    CPC分类号： C01B3/26 ,  B01J7/00 ,  C01B3/22 ,  C01B2203/0277 ,  C01B2203/0833 ,  C01B2203/1047 ,  C01B2203/1082 ,  C01B2203/1211 ,  C01B2203/1252 ,  C01B2203/142 ,  C01B2203/16 ,  C01B2203/1623

    摘要： 【課題】有機ハイドライドの脱水素反応を行う脱水素反応装置における脱水素触媒の活性の低下を抑制するために、当該脱水素反応装置に対して簡易な構成により水素を供給可能とする。 【解決手段】水素製造システム1が、有機ハイドライドの触媒存在下における脱水素反応によって水素を生成する第1脱水素反応装置3と、第1脱水素反応装置の生成物が供給され、当該生成物に残留する有機ハイドライドの触媒存在下における脱水素反応によって水素を生成する第2脱水素反応装置4とを備え、第1脱水素反応装置で用いられる第1触媒の量は、第2脱水素反応装置で用いられる第2触媒の量以下であり、かつ第1脱水素反応装置における水素の発生量は、第2脱水素反応装置における水素の発生量よりも少ない構成とする。 【選択図】図1

    摘要翻译： 要解决的问题：为了抑制脱氢反应器中的脱氢催化剂的活性降低，通过简单的构造向氢化脱氢反应器供给氢，进行有机氢化物的脱氢反应。解决方案：氢气制备系统1 包括：在催化剂存在下通过有机氢化物的脱氢反应生成氢的第一脱氢反应器3; 和第二脱氢反应器4，通过有机氢化物在催化剂存在下的脱氢反应，供应第一脱氢反应器3中的产物以产生氢。 在第一脱氢反应器3中使用的第一催化剂的量等于或小于第二脱氢反应器4中使用的第二催化剂的量，并且在第一脱氢反应器3中产生的氢的量小于第一脱氢反应器3中产生的量 在第二脱氢反应器4中产生的氢。