公开(公告)号：JP2021171035A

公开(公告)日：2021-11-01

申请号：JP2020080772

申请日：2020-04-30

申请人： 国立研究開発法人物質・材料研究機構

发明人： 有賀 克彦 ,  宋 静文 ,  賈 小芳 ,  南 皓輔 ,  ヒル ジョナサン ピー ,  中西 淳 ,  スレスタ ロック クマール

IPC分类号： C12N5/0775 ,  C01B32/156 ,  C12M1/00

摘要： 【課題】大面積でナノスケールの表面形状を連続的に調整できるFNW基材の作製方法を提供する。また、大面積で、幹細胞を、多能性及自己複製能を維持しながら培養可能とする足場を提供する。 【解決手段】 針状のFNWを水の表面に分散させ、該水の表面に分散したFNWに一定方向から水圧をかけて配向させることを含む、FNW基材の製造方法において、異なるアスペクト比のFNWの混合物を、それらの混合比率を調整して水の表面に分散させ、該異なるアスペクト比のFNWの混合物に一定方向から水圧をかけることによって、配向の程度を制御する。 配列された針状のフラーレンナノウィスカー(FNW)を含む幹細胞培養用の足場において、配列された針状のFNWによって、ナノスケールの尾根と谷の交互の繰り返しを含む表面形状が形成されている、足場とする。 【選択図】 なし