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公开(公告)号:JP2018130965A
公开(公告)日:2018-08-23
申请号:JP2018087950
申请日:2018-05-01
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 【課題】 本発明は、高い透明性と水蒸気バリア性とを有するフィルムを提供することを目的とする。 【解決手段】 基材フィルムの少なくとも片面に、有機珪素化合物を蒸着用モノマーガスとして使用するプラズマ化学気相成長法により、1層またはそれ以上の酸化珪素蒸着層を設け、次いで、該形成直後の酸化珪素蒸着層の表面に、インラインで、有機珪素化合物及び鎖式炭化水素を蒸着用モノマーガスとして使用するプラズマ化学気相成長法により、1層またはそれ以上の珪素含有炭化水素層を設け、これによって、前記酸化珪素蒸着層中に炭素原子をドープしてなる高防湿性フィルムを提供する。 【選択図】 図1
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公开(公告)号:JP2015193194A
公开(公告)日:2015-11-05
申请号:JP2014073310
申请日:2014-03-31
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 【課題】 高温多湿下等の過酷条件においても長期保存後においてもガスバリア性の劣化が少ない優れたガスバリア性を有するガスバリア性フィルムを提供する。 【解決手段】 基材フィルム上に縮合物の珪素原子の結合状態がQ1及びQ2構造のものの割合が珪素原子全体の60%以上になる混合溶液を調製したアルコキシシラン加水分解産物の縮合物溶液と結晶性を有する水溶性高分子とを混合させたバリアコート剤を塗工してコーティング層を設け、該該コーティング層中の溶媒を除去し塗膜を形成するため溶液中の溶媒の沸点T bp ℃〜T bp +100℃の温度条件で加熱処理を施し、さらに、該塗膜をT g-coat ℃〜T g-base ℃の範囲で加熱処理を施して上記ガスバリア性塗膜中の該縮合物を縮合させて得られるSi−O−Si結合を基本骨格とする網目構造を有するネットワーク構造と該ネットワーク構造の網目に結晶化させた水溶性高分子を微結晶として取り込んだコンポジット膜を形成したガスバリア性塗膜を有するガスバリア性フィルムである。 【選択図】 なし
Abstract translation: 要解决的问题:为了提供具有优异阻气性的阻气膜,即使在诸如高温和高湿度条件的苛刻条件下甚至长时间储存也难以劣化。解决方案: 制造具有阻气性涂膜的阻气膜的方法包括以下步骤:在基材膜上涂布阻挡涂层剂,该试剂通过将具有结晶性的水溶性聚合物与烷氧基硅烷的缩合物溶液 水解产物,使得在冷凝物中各自具有Q1或Q2结构的键合状态的硅原子占全部硅原子的60%以上,形成涂层; 通过在T℃(溶剂的沸点)-T + 100℃的温度条件下加热涂层来除去涂层中的溶剂,形成涂膜; 在T°CT℃的温度下进一步加热涂膜,形成这样的复合膜,即通过将阻气涂膜中的冷凝物冷凝而得到的具有Si-O-Si键的网络结构,作为 形成基本骨架,并且将网状结构的网状物中结晶的水溶性聚合物作为细晶体取出。
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公开(公告)号:JP2015193193A
公开(公告)日:2015-11-05
申请号:JP2014073309
申请日:2014-03-31
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 【課題】高温熱水処理前後でのガスバリア性の劣化が少ない優れたガスバリア性を有するガスバリア性フィルムを提供する。 【解決手段】基材フィルム上に、酸化アルミニウム蒸着膜を有し、該蒸着膜上に、縮合物の珪素原子の結合状態がQ1及びQ2構造のものの割合が珪素原子全体の60%以上になる混合溶液を調製したアルコキシシラン加水分解産物の縮合物溶液と結晶性を有する水溶性高分子とを混合させたバリアコート剤を塗工してコーティング層を設け、該該コーティング層中の溶媒を除去し塗膜を形成するため溶液中の溶媒の沸点T bp ℃〜T bp ℃+100℃の温度条件で加熱処理を施し、さらに、該塗膜をT g-coat ℃〜T g-base ℃の範囲で加熱処理を施して上記ガスバリア性塗膜中の該縮合物を縮合させて得られるSi−O−Si結合を基本骨格とする網目構造を有するネットワーク構造と該ネットワーク構造の網目に結晶化させた水溶性高分子を微結晶として取り込んだコンポジット膜を形成したガスバリア性塗膜を有するガスバリア性フィルムである。 【選択図】 なし
Abstract translation: 要解决的问题:提供一种具有优异的阻气性的阻气膜,使阻气性在耐气体阻隔膜上进行高温热水处理前后的气体阻隔性较差劣化。解决方案:一种制造气体阻隔层的方法 具有阻气性涂膜的膜包括以下步骤:在基膜材料上形成氧化铝气相沉积膜; 通过将具有结晶性的水溶性聚合物与这样制备的烷氧基硅烷水解产物的缩合物溶液混合获得,使得具有Q1或Q2结构的键合状态的缩合物的硅原子占据了阻挡涂层剂 60%以上的全部硅原子,形成涂布层; 通过在T℃(溶剂的沸点)-T℃+ 100℃的加热条件下加热涂层来除去涂层中的溶剂,形成涂膜; 并且在T℃CT下进一步加热涂膜以形成其中形成具有作为基本骨架的Si-O-Si键的网络结构的复合膜,该粘合是通过将阻气涂层中的冷凝物 并且结晶的水溶性聚合物作为细晶体在网络结构的相邻网络之间取出。
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