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公开(公告)号：JPWO2020130155A1
公开(公告)日：2021-11-04
申请号：JP2019050256
申请日：2019-12-23
申请人： 太陽インキ製造株式会社
摘要： [要約] [課題]密着性、フッ酸耐性および剥離性に優れるレジスト組成物、及びこれを用いて基材加工品を提供する。 [解決手段](A)カルボキシル基含有樹脂、(B)多官能(メタ)アクリレートモノマー、(C)多官能チオール化合物、(D)光重合開始剤、および(E)前記(A)カルボキシル基含有樹脂100質量部に対して20〜100質量部のタルクを含むことを特徴とする、フッ酸耐性レジスト組成物、およびこれを用いてエッチング加工された基材加工品が得られた。 [選択図]なし
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公开(公告)号：JP2021138560A
公开(公告)日：2021-09-16
申请号：JP2020035684
申请日：2020-03-03
申请人： 太陽インキ製造株式会社
发明人： 西尾 一則
摘要： 【課題】基板に対する密着性に優れ、エッチング液における長時間の浸漬にも優れた耐薬品性を示すエッチングレジスト組成物を提供する。 【解決手段】 (A1)アスファルト、(A2)塩素化ポリプロピレンおよび(A3)塩素化ゴムのいずれか少なくとも一種と、(B)環化ゴムと、(C)塩素化パラフィンと、(D)有機溶剤と、を含み、無機フィラーを含まないか、又は含んだとしても、無機フィラーの含有率が組成物中の固形分の全量あたり10質量%以下であることを特徴とするエッチングレジスト組成物が得られた。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2016222889A
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：JP2015249555
申请日：2015-12-22
申请人： 太陽インキ製造株式会社
摘要： 【課題】ITO膜との密着性および強酸耐性に優れたエッチングレジスト膜を形成できるエッチングレジスト組成物、および、該組成物から得られる樹脂層を有するドライフィルムを提供する。 【解決手段】ウレタン構造およびビスフェノール構造の少なくとも何れか一方の構造を有するアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするエッチングレジスト組成物、および、該組成物から得られる樹脂層を有するドライフィルムである。 【選択図】なし
摘要翻译： 蚀刻抗蚀剂能够形成优异的抗蚀剂与ITO膜膜密合性和强阻力的组合物，以及提供了具有由组合物得到的树脂层的干膜。 氨基甲酸酯结构和蚀刻抗蚀剂，其特征在于含有具有双酚结构中的至少一种结构的碱可溶性树脂组合物，并且是具有由该组合物得到的树脂层的干膜 。 系统技术领域
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公开(公告)号：JP2016161875A
公开(公告)日：2016-09-05
申请号：JP2015042812
申请日：2015-03-04
申请人： 太陽インキ製造株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/075 , C08G59/17 , C08F290/00 , G03F7/027
摘要： 【課題】フッ酸耐性に優れたエッチングレジスト膜を形成できるエッチングレジスト組成物、および、該組成物から得られる樹脂層を有するドライフィルムを提供する。 【解決手段】ビフェニル構造を有するアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするエッチングレジスト組成物、および、該組成物から得られる樹脂層を有するドライフィルムである。 【選択図】なし
摘要翻译： 要解决的问题：提供一种抗蚀剂组合物，由此可以形成耐氟酸耐腐蚀性的抗蚀剂组合物，以及由该组合物获得的具有树脂层的干膜。溶胶：抗蚀剂组合物包含碱 - 具有联苯结构的可溶性树脂。 干膜具有由该组合物获得的树脂层。选择图：无
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公开(公告)号：JP2020105549A
公开(公告)日：2020-07-09
申请号：JP2018243284
申请日：2018-12-26
申请人： 太陽インキ製造株式会社
摘要： 【課題】電解めっき時のクラックを抑制し、アルカリ水溶液への溶解性および指触乾燥性に優れた硬化塗膜が得られるめっきレジスト用樹脂組成物を提供する。 【解決手段】(A)アルカリ可溶性ポリマー、(B)(メタ)アクリロイル基を有するモルフォリン化合物、(C)光重合開始剤、および、(D)シランカップリング処理されたタルクを含むことを特徴とするめっきレジスト用樹脂組成物である。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP6697222B2
公开(公告)日：2020-05-20
申请号：JP2015042812
申请日：2015-03-04
申请人： 太陽インキ製造株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/075 , C08G59/17 , C08F290/00 , G03F7/027
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公开(公告)号：JP2016017021A
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：JP2014141955
申请日：2014-07-10
申请人： 太陽インキ製造株式会社
IPC分类号： C03C15/00
摘要： 【課題】露光、及び現像の各工程が不要であり、かつレジストをガラス基板から容易に除去が可能であり、更に強酸又は強塩基等を含むエッチング液に対するレジストの耐性が向上したエッチングレジスト組成物及び基板の製造方法を提供する。 【解決手段】アスファルト、シリカ粉末、有機溶剤を含有するエッチングレジスト組成物、及びこれを用いてエッチング対象の基板上にパターン状に施与し、前記基板上に施与されたパターン状のエッチングレジスト組成物を加熱乾燥してレジストとし、次いで前記基板をエッチング液によりエッチング処理する基板の製造方法。前記基板がガラスであり、前記エッチング液がフッ化水素酸を含む基板の製造方法。 【選択図】なし
摘要翻译： 要解决的问题：为了提供具有不需要曝光和显影处理的性质的抗蚀蚀剂组合物，可以从玻璃基板中容易地除去由组合物获得的抗蚀剂，并且抗蚀剂对含有强的 酸，强碱等，以及基材的制造方法。溶胶：抗蚀剂组合物包含沥青，二氧化硅粉末和有机溶剂。 制造衬底的方法包括通过使用抗蚀剂组合物在待蚀刻的衬底上形成图案，加热和干燥施加在衬底上的图案化抗蚀剂组合物以形成抗蚀剂，并用蚀刻溶液蚀刻衬底。 基板由玻璃制成; 并且蚀刻溶液含有氢氟酸。选择图：无
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公开(公告)号：JP5734722B2
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：JP2011088927
申请日：2011-04-13
申请人： 太陽インキ製造株式会社
IPC分类号： C08K3/22 , H05K3/28 , C08L101/08
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