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发明专利
制御システム、制御方法、及び基板処理装置审中-公开

公开(公告)号：JP2021158178A

公开(公告)日：2021-10-07

申请号：JP2020055704

申请日：2020-03-26

Applicant: 東京エレクトロン株式会社

Inventor： ▲高▼橋秀樹 , 小泉真 , 富田尚宏 , 加茂信一 , 女部田雄総 , 小川純一

IPC: H04Q9/00 , G05B23/02 , H01L21/02

Abstract: 【課題】装置に対する操作を適切に行うことができる技術を提供する。【解決手段】基板を処理する基板処理装置を制御する制御システムであって、前記基板処理装置と同じ場所に配置され、前記基板処理装置に対する制御の指示をユーザから受け付ける第1端末、及び第2端末と、前記基板処理装置とは異なる場所に配置され、前記基板処理装置に対する制御の指示をユーザから受け付ける第3端末と、前記基板処理装置の異常が検知された場合、前記第3端末による前記基板処理装置に対する制御を無効とする制御装置と、を有する制御システムを提供する。【選択図】図4

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