公开(公告)号：JPWO2016059974A1

公开(公告)日：2017-07-27

申请号：JP2016554035

申请日：2015-09-30

Applicant: 株式会社堀場製作所

Inventor： 井戸　琢也 ,  琢也 井戸 ,  泰士 平田 ,  泰士 平田 ,  聡朗 中川 ,  聡朗 中川

IPC: G01N21/61 ,  G01N21/3504

CPC classification number: G01N21/55 ,  G01N21/3504 ,  G01N21/61 ,  G01N21/8507 ,  G01N33/0036 ,  G01N2021/158 ,  G01N2021/8514 ,  G01N2021/8578 ,  G01N2201/0231 ,  G01N2201/06113 ,  G01N2201/0636

Abstract: 配管内を流れるガス濃度を光学測定系により測定するガス分析装置において、配管側壁に取り付けられるプローブの根元及びフランジの腐食を防止する。ガス分析装置1は、プローブ管11と、フランジ13と、光学系部材と、ヒータ31とを備えている。プローブ管11は、煙道50内を流れる試料ガスSの所定の測定領域に測定光を投光し及び/又は測定領域からの測定光を受光するための光路を含む。フランジ13は、プローブ管11の外周に固定され、配管側壁21に装着される。光学系部材は、測定領域内の試料ガスSに対して測定光を投光し及び/又は測定領域からの測定光を受光する。ヒータ31は、フランジ13内に設置され、プローブ管11とフランジ13との固定部分を加熱する。