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公开(公告)号：JPWO2019198178A1
公开(公告)日：2021-02-25
申请号：JP2018015241
申请日：2018-04-11
Applicant: 株式会社島津製作所
Abstract: フィールドフローフラクショネーション装置は、分離チャネル、キャリア流体供給部、分離膜、廃液チャンバ、クロスフロー流量調節部、及びキャリア流体追加部を備えている。キャリア流体追加部は、クロスフロー流量調節部に流入するキャリア流体の流量が分離膜を通過したキャリア流体の流量よりも大きくなるように、クロスフロー流量調節部よりも上流側に設定されたキャリア流体追加位置において、分離膜を通過したキャリア流体の流れに別のキャリア流体の流れを追加するように構成されている。
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公开(公告)号：JP2020171882A
公开(公告)日：2020-10-22
申请号：JP2019074772
申请日：2019-04-10
Applicant: 株式会社島津製作所
IPC: B01J20/283 , B01J20/287 , B01J20/10 , B01J20/30 , B01J20/281
Abstract: 【課題】親水性材料の表面の水酸基(−OH基)に疎水性基を導入する親水性材料の疎水化方法を提供する。 【解決手段】疎水化すべき親水性材料を、反応促進剤としてアミノ酸存在下で、疎水性基含有シリル化剤と反応させ、親水性材料表面に疎水性基含有シリル基を導入することを含む、親水性材料の疎水化方法。前記方法により、疎水化されたシリカゲルカラム充填剤を製造する。さらに、前記疎水化されたシリカゲルカラム充填剤をカラムに充填して、疎水化されたシリカゲルカラムを製造する。 【選択図】図3
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2020124662A
公开(公告)日：2020-08-20
申请号：JP2019017700
申请日：2019-02-04
Applicant: 株式会社島津製作所
Abstract: 【課題】分析終了後に分離チャネル内に残留したサンプルを効率よく除去できる、フィールドフローフラクショネーション装置の提供。 【解決手段】フィールドフローフラクショネーション装置は、サンプルの分析が終了して次のサンプルの分析が開始されるまでのタイミングで、流体供給流路34を通じて流量調節部の設定流量よりも大きい流量で廃液チャンバ22にキャリア流体を供給し、それによって廃液チャンバから分離チャネル2へのキャリア流体の流れを形成するように構成されている。これにより、分離膜10に付着したサンプルが分離膜から離脱して出口ポート6から排出される。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2019181373A
公开(公告)日：2019-10-24
申请号：JP2018076071
申请日：2018-04-11
Applicant: 株式会社島津製作所
Abstract: 【課題】粒子の拡散係数の違いのみを利用して分離する従来のフィールドフローフラクショネーション装置よりも分離性能の向上したフィールドフローフラクショネーション装置を提供する。 【解決手段】フィールドフローフラクショネーション装置は、両端に入口ポートと出口ポートが設けられ、前記入口ポートと前記出口ポートとの間でキャリア流体が流れる空間をなす分離チャネルと、前記分離チャネル内を前記入口ポートから前記出口ポートに向かってキャリア流体が流れるチャネルフローに平行な前記分離チャネルの壁面をなし、前記キャリア流体を透過させて分離対象の粒子を透過させない性質を有する分離膜と、前記半透膜を透過したキャリア流体を外部へ排出する排出ポートと、を少なくとも備えている。前記分離膜は、その表面の少なくとも一部にイオン交換性を有する官能基が修飾されたものである。 【選択図】 図1
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公开(公告)号：JP5987969B2
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：JP2015500066
申请日：2013-02-15
Applicant: 株式会社島津製作所
CPC classification number: G01N30/64 , G01N27/70 , G01N2030/025 , G01N2030/647
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公开(公告)号：JPWO2020017355A1
公开(公告)日：2021-07-15
申请号：JP2019026786
申请日：2019-07-05
Applicant: 株式会社島津製作所
Abstract: 分離セルは、分離チャネル形成チップ及び排出チャネル形成チップを備えている。当該分離セルは、前記分離チャネル形成チップに設けられ、長手方向を持つ分離チャネルを画定する平面を有する分離チャネル形成板と、前記排出チャネル形成チップに設けられ、前記分離チャネルの長手方向に沿って延びる排出チャネルを画定する平面を有する排出チャネル形成板と、前記分離チャネル形成チップにおいて前記分離チャネルを画定する前記平面に設けられ、前記分離チャネルと前記排出チャネルとの間に介在し、前記分離チャネル形成板よりも小さく前記分離チャネルよりも大きく、前記分離チャネルを塞ぐように固着され、キャリア流体を選択的に透過させるための分離膜と、前記排出チャネル形成チップにおいて前記排出チャネルを画定する前記平面に設けられ、前記キャリア流体を透過させる性質をもち、前記排出チャネル形成板よりも小さく前記分離膜と同一か又はそれよりも大きく、前記排出チャネルの開口を塞ぐように取り付けられた多孔質の支持板と、前記分離チャネル形成チップと前記排出チャネル形成チップとを、互いに特定の位置関係で位置決めするための位置決め構造と、を備えている。前記分離チャネル形成チップと前記排出チャネル形成チップとは、前記位置決め構造によって前記特定の位置関係で位置決めされ、それによって、前記分離膜の全体が前記支持板によって支持されている。
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