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公开(公告)号：JP2017067451A
公开(公告)日：2017-04-06
申请号：JP2015189120
申请日：2015-09-28
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: G01B15/04
CPC classification number: H01J37/265 , H01J37/28 , H01J2237/24592 , H01J2237/2826
Abstract: 【課題】微細パターンの測長,検査において,微小なプローブ径の変動や装置間機差が,測長結果や検査結果が所定の値に収まるように装置状態を管理することで,高い精度で装置性能を管理ことが出来る計測装置を提供する。 【解決手段】計測装置では,一次荷電量子線10を試料8に照射して走査する照射光学系と,試料から発生した二次荷電粒子を検出する検出器5と,検出器からの出力信号を処理する信号処理部とを有し,信号処理部は既知の第一寸法で校正された第一パターン群および既知の第二寸法で校正された第二パターン群の幅を測長する測長部15と,第一及び第二のパターン群における既知の寸法と,前記第一及び第二のパターン群における測長値との関係を関数として定義する演算部23とを有する。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2015165211A
公开(公告)日：2015-09-17
申请号：JP2014040352
申请日：2014-03-03
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
Abstract: 【課題】寸法管理対象が更に微細化かつ平滑化した場合であっても、測長および内部構造の測定を高精度で行う荷電粒子ビーム装置、校正用部材及び荷電粒子ビームの測定方法を提供する。 【解決手段】電子ビーム10を偏向させることにより、校正用部材1の校正パターン部表面9を走査する荷電粒子ビーム装置において、校正用部材1は、密度の異なる第1の材料と第2の材料を交互に積層した複数の層の端部が露出する校正パターンを有し、第1の材料と第2の材料の各層は電子ビーム10の照射方向に対して所定の角度で傾斜し、電子ビーム10を照射して校正用部材1の校正パターンを走査して信号波形から層の端部の実測値を校正する校正値を演算し、複数の校正用部材1のそれぞれの校正値と信号波形を保持し、試料の表面を走査した信号波形と校正値記憶部の信号波形とを比較して校正値を取得し、信号波形に基づく値を校正値で校正する。 【選択図】図1A
Abstract translation: 要解决的问题：即使尺寸管理目标被进一步细化和平滑，也可以提供能够高精度地测量长度和内部结构的带电粒子束装置，校准部件和带电粒子束测量方法。解决方案：在 带电粒子束装置，用于通过偏转电子束10扫描校准构件1的校准图案部分的表面9，校准构件1包括通过交替堆叠第一材料而获得的多个层的端部的校准图案， 暴露第二种不同密度的材料，第一材料和第二材料的各层相对于电子束10的照射方向以预定角度倾斜，辐射电子束10以扫描 校准构件1，并计算用于校准端部的测量值的校准值 保持来自信号波形的层，校准值和多个校准构件1中的每一个的信号波形，将通过扫描样品表面获得的信号波形与存储在校准值存储器中的信号波形进行比较 用于获得校准值的单位，并且基于信号波形的值由校准值校准。
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